詞條
詞條說(shuō)明
現(xiàn)在激光加工工藝不斷深入與創(chuàng)新,一種應(yīng)用較低功率的激光,便能使玻璃分離的玻璃激光切割新技術(shù)出現(xiàn),這一技術(shù)不對(duì)玻璃造成融化等熱影響,這種可控的切割新技術(shù)與傳統(tǒng)的機(jī)械切割工具不同,激光束的能量以一種非接觸的方式對(duì)玻璃進(jìn)行切割,形成一條光滑而筆直的裂縫,不會(huì)有碎屑和微裂紋出現(xiàn),因而激光切割的邊緣強(qiáng)度大幅提升,且免除了后續(xù)的加工。使用激光法可一步切割厚度為0.1mm到4mm的玻璃。影響切割速度的因素有:玻
硅片切割難點(diǎn):1、雜質(zhì)線痕:由多晶硅錠內(nèi)雜質(zhì)引起,在切片過(guò)程中無(wú)法完全去除,導(dǎo)致硅片上產(chǎn)生相關(guān)線痕。2、劃傷線痕:由砂漿中的SIC大顆?;蛏皾{結(jié)塊引起。切割過(guò)程中,SIC顆?!翱ā痹阡摼€與硅片之間,無(wú)法溢出,造成線痕。 表現(xiàn)形式:包括整條線痕和半截線痕,內(nèi)凹,線痕發(fā)亮,較其它線痕較加窄細(xì)。 3、密布線痕(密集型線痕):由于砂漿的磨削能力不夠或者切片機(jī)砂漿回路系統(tǒng)問(wèn)題,造成硅片上出現(xiàn)密集線痕區(qū)域。
介紹半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。微量污染也會(huì)導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì),包括**物和無(wú)機(jī)物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài),有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。**污染包括光刻膠、**溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來(lái)的油脂或纖維。無(wú)機(jī)污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等,嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo);堿金屬如鈉等,引起嚴(yán)重漏電;顆粒污染包括硅渣、塵埃、細(xì)菌
金屬箔是用金屬延展成的薄金屬片。主要有赤金箔燙印、純銀箔及燙印兩種。金屬箔是很薄的金屬片,一般會(huì)用錘鍛或是軋制的方式制造。金屬箔多半會(huì)選用延展性好的材料,例如鋁、銅、錫及金。金屬箔一般會(huì)因?yàn)楸旧淼闹亓慷鴱澢?,而且很容易撕開。金屬的延展性越好,可制成的金屬箔就較薄。例如鋁箔的厚度一般可到1/1000英寸(0.03mm),而延展性較好的金,可以制成厚度只有數(shù)個(gè)原子厚度的金箔。金屬箔常用在日常生活中,不
公司名: 北京華諾恒宇光能科技有限公司
聯(lián)系人: 張經(jīng)理
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