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詞條說(shuō)明
叮~鵬城半導(dǎo)體向您發(fā)來(lái)一封會(huì)議邀請(qǐng)函
2023年*二屆*三代半導(dǎo)體材料技術(shù)與市場(chǎng)研討會(huì)由半導(dǎo)體在線主辦,本屆會(huì)議于2023年3月30-31日在中國(guó)-蘇州合景萬(wàn)怡酒店召開(kāi)。*二屆*三代半導(dǎo)體材料技術(shù)與市場(chǎng)研討會(huì)提供協(xié)同創(chuàng)新的高質(zhì)量交流平臺(tái),推動(dòng)國(guó)內(nèi)三代半導(dǎo)體材料的學(xué)術(shù)研究、技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)發(fā)展,展示業(yè)內(nèi)精英企業(yè),凝聚行業(yè)發(fā)展共識(shí)。在此次會(huì)議,鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司(簡(jiǎn)稱:鵬城半導(dǎo)體)將帶來(lái)納米技術(shù)及**制造設(shè)備跟大家見(jiàn)面,其中包括
【前言】金剛石是自然界已發(fā)現(xiàn)的具有較高的硬度、強(qiáng)度、耐磨性材料,金剛石具有的熱導(dǎo)率、透過(guò)波段、聲速以及半導(dǎo)體特性和化學(xué)惰性等綜合性能使其成為當(dāng)今世界上較優(yōu)秀的*材料。上世紀(jì)80年代初期通過(guò)化學(xué)低壓氣相沉積生成金剛石薄膜(CVD)技術(shù)**突破性進(jìn)展,經(jīng)過(guò)多年的研究發(fā)展,CVD金剛石生長(zhǎng)技術(shù)已日漸成熟。目前已有四種形態(tài)的CVD金剛石產(chǎn)品進(jìn)入市場(chǎng),它們是:1)純多晶金剛石厚片 2)涂層金剛石;3)大
一、PVD真空鍍膜設(shè)備市場(chǎng)概況高真空電子束蒸鍍機(jī)-鵬城半導(dǎo)體2024年,**PVD真空鍍膜設(shè)備行業(yè)的總規(guī)模約為22億美元,而且預(yù)計(jì)到2024年,這一數(shù)字將會(huì)翻倍,達(dá)到47億美元。PVD真空鍍膜技術(shù)由非金屬物質(zhì)以真空溫度和帶電離子碰撞技術(shù),形成厚膜,具有聚合度高、粘著力強(qiáng)、透明度高及耐腐蝕性好等優(yōu)點(diǎn)。PVD真空鍍膜設(shè)備可廣泛應(yīng)用于電子、醫(yī)療、汽車(chē)、航空航天、航空航空電子等領(lǐng)域,以及金屬表面處理、無(wú)損
化學(xué)氣相沉積設(shè)備(CVD)-小型管式LPCVD設(shè)備
LPECVD是在低壓高溫的條件下,通過(guò)化學(xué)反應(yīng)氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜)??捎糜诳茖W(xué)研究、實(shí)踐教學(xué)、小型器件制造。小型管式LPCVD設(shè)備設(shè)備結(jié)構(gòu)及特點(diǎn)1、小型化,方便實(shí)驗(yàn)室操作和使用,大幅降低實(shí)驗(yàn)成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸;每次裝片1~3片?;胖梅绞剑号渲萌N基片托架,豎直、水平臥式、帶傾角?;螤铑?lèi)型:不規(guī)則形狀的散片、φ2~4
公司名: 鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司
聯(lián)系人: 戴朝蘭
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供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 小型 PC08 化學(xué)氣相沉積小型LPCVD設(shè)備
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 PC07 化學(xué)氣相沉積LPCVD設(shè)備
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供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 TGV/TSV /TMV 高真空磁控濺射鍍膜機(jī)
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 高真空磁控濺射/離子輔助/多弧復(fù)合鍍膜機(jī)
生產(chǎn)型 高真空磁控濺射及離子輔助復(fù)合鍍膜機(jī)
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 高真空磁控濺射鍍膜機(jī)
公司名: 鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司
聯(lián)系人: 戴朝蘭
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