鵬城半導體邀您參加*四屆**半導體產(chǎn)業(yè)（重慶）博覽會

時間：2022-03-16

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

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鵬城半導體|HFCVD熱絲化學氣相沉積設備高性價比生產(chǎn)廠家臺風快訊
金剛石是一種典型的多功能限材料，在電學、光學、熱學、力學聲學和電化學方面具有優(yōu)異性能，在眾多GAO*XIN*技術領域具有廣闊的應用前景。20世紀80年代之后，化學氣相沉積（CVD）技術制備金剛石涂層促進了其廣泛的應用，引發(fā)了席卷的“金剛石熱”。90年代后，隨著金剛石涂層工業(yè)化制備技術的出現(xiàn)，金剛石涂層產(chǎn)業(yè)開萌生。金剛石涂層工具、金剛石熱沉、金剛石光學窗口、金剛石膜基探測器及傳感器和金剛石電等一系列
等離子體化學氣相沉積設備有哪些特點《臺風資訊》
等離子體化學氣相沉積設備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學氣相沉積)，另一個是PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)，它們都是在20世紀70年代發(fā)展起來的鍍膜工藝。其特點是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態(tài)無機物膜;2、等離子體清洗基材，使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜，內(nèi)應力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產(chǎn)生微裂紋;4、低溫成膜，溫度對基材沒什么影響，避免了
鵬城半導體攜熱絲CVD金剛石設備亮相碳基半導體材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展論壇
世界范圍的信息化浪潮正帶來**網(wǎng)絡化、國家數(shù)字化、社會智能化的整體轉變，5G、人工智能、大數(shù)據(jù)和云計算等**技術的誕生和蓬勃發(fā)展，以及向生產(chǎn)生活各層面的深度滲透，較加速推動信息時代的快速發(fā)展。在世界數(shù)字化洶涌前行的背后，是硅基半導體芯片能的持續(xù)飛速提升，提供了存儲、運算、網(wǎng)絡、智能的多維度底層支撐，為數(shù)字升級、智能互聯(lián)打造了堅實的硬件基礎。但隨著芯片制造工藝在納米尺度逐漸逼近物理極限，硅基半導體芯
為您提供高性價比真空鍍膜設備解決方案《520愛情風暴來襲》
真空鍍膜設備的薄膜制作過程，簡單來說就是將一種材料(薄膜材料）轉移到另一種材料(基底)的表面，形成和基底牢固結合的薄膜的過程。所以，任何的真空鍍膜薄膜制作方法都包括:源蒸發(fā)、遷移和凝聚三個重要環(huán)節(jié)。多功能磁控濺射儀一、鍍膜蒸發(fā)源“源"的作用是提供鍍膜的材料（或被鍍材料中的某種組分)。通過物理或化學的方法使鍍膜材料成為氣態(tài)物質(zhì)。熱絲CVD金剛石設備二、遷移過程遷移過程都是在氣相中進行的，在氣態(tài)物質(zhì)遷