PVD真空鍍膜設(shè)備行業(yè)分析

時間：2024-03-04作者：鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司瀏覽：103

鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司專注于PVD鍍膜設(shè)備,化學氣相沉積,金剛石涂層等

• 詞條

  詞條說明

• 「喜訊」熱烈祝賀鵬城半導(dǎo)體榮獲4項軟件著作權(quán)專利證書

  近日，鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司（簡稱：鵬城半導(dǎo)體）申請的《PVD薄膜沉積系統(tǒng)軟件 》、《高真空濺射系統(tǒng)軟件》、《電子束蒸鍍薄膜沉積系統(tǒng)軟件》、《微米晶、納米晶金剛石薄膜CVD沉積系統(tǒng)軟件》4項軟件著作權(quán)**通過審批，經(jīng)*人民共和國國家**考證，根據(jù)《*人民共和國計算機軟件保護條例》和《計算機軟件著作權(quán)登記辦法》的規(guī)定，鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司被認定這4項軟件的法定著作權(quán)人，從頒證

• 為您提供高性價比真空鍍膜設(shè)備解決方案《520愛情風暴來襲》

  真空鍍膜設(shè)備的薄膜制作過程，簡單來說就是將一種材料(薄膜材料）轉(zhuǎn)移到另一種材料(基底)的表面，形成和基底牢固結(jié)合的薄膜的過程。所以，任何的真空鍍膜薄膜制作方法都包括:源蒸發(fā)、遷移和凝聚三個重要環(huán)節(jié)。多功能磁控濺射儀一、鍍膜蒸發(fā)源“源"的作用是提供鍍膜的材料（或被鍍材料中的某種組分)。通過物理或化學的方法使鍍膜材料成為氣態(tài)物質(zhì)。熱絲CVD金剛石設(shè)備二、遷移過程遷移過程都是在氣相中進行的，在氣態(tài)物質(zhì)遷

• 鵬城半導(dǎo)體亮相第八屆國際第三代半導(dǎo)體論壇

  一年一度行業(yè)盛會，*八屆***三代半導(dǎo)體論壇（IFWS ）&*十九屆中國**半導(dǎo)體照明論壇（SSLCHINA）于2023年2月7日-10日（7日報到）在蘇州金雞湖凱賓斯基大酒店召開。在這場被視為“***三代半導(dǎo)體行業(yè)*”的盛會上，由2014年諾貝爾物理獎獲得者、日本工程院院士、美國工程院院士、中國工程院外籍院士、日本名古屋大學未來材料與系統(tǒng)研究所教授天野浩，美國工程院院士、美國國家發(fā)明

• 創(chuàng)芯未來 鵬城半導(dǎo)體亮相第二屆碳基半導(dǎo)體材料與器件產(chǎn)業(yè)發(fā)展論壇

  半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)高、進步快，一代產(chǎn)品需要一代工藝，而一代工藝需要一代設(shè)備。**半導(dǎo)體設(shè)備市場集中度高，主要有美日荷廠商壟斷，國內(nèi)自給率僅有 5%左右，國產(chǎn)替代空間巨大。尤其是隨著摩爾定律趨近極限，半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)進步放緩，國內(nèi)廠商與****技術(shù)差距正在逐漸縮短，未來 3-5 年將是半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)替代黃金戰(zhàn)略機遇期。鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司作為一家半導(dǎo)體材料、工藝和裝備的研發(fā)設(shè)計、生產(chǎn)制造集一體的