創(chuàng)芯未來鵬城半導體亮相*二屆碳基半導體材料與器件產業(yè)發(fā)展論壇

時間：2022-07-22

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

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第十七屆全國MOCVD學術會議與您太原相見！
2022年8月15日-18日，2022十七屆全國MOCVD學術會議選擇在中國·太原·湖濱國*際大酒店舉行。金屬**化學氣相淀積（MOCVD）技術自二十世紀六十年代提出以來，取*得了飛速進步，已經廣泛應用于制備III族氮化物、III-V族化合物、碲化物、氧化物等重要半導體材料及其**結構，較*大地推動了光電子器件和微電子器件與芯片的發(fā)展及產業(yè)化，也成為半導體**晶格、**阱、**線、**點結構材料及相
鵬城半導體攜熱絲CVD金剛石設備亮相碳基半導體材料產業(yè)發(fā)展論壇
世界范圍的信息化浪潮正帶來**網(wǎng)絡化、國家數(shù)字化、社會智能化的整體轉變，5G、人工智能、大數(shù)據(jù)和云計算等**技術的誕生和蓬勃發(fā)展，以及向生產生活各層面的深度滲透，較加速推動信息時代的快速發(fā)展。在世界數(shù)字化洶涌前行的背后，是硅基半導體芯片能的持續(xù)飛速提升，提供了存儲、運算、網(wǎng)絡、智能的多維度底層支撐，為數(shù)字升級、智能互聯(lián)打造了堅實的硬件基礎。但隨著芯片制造工藝在納米尺度逐漸逼近物理極限，硅基半導體芯
化學氣相沉積設備（CVD）-小型管式LPCVD設備
LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設備設備結構及特點1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片?；胖梅绞剑号渲萌N基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角?；螤铑愋停翰灰?guī)則形狀的散片、φ2～4
【喜訊】鵬城半導體榮獲誠信企業(yè)及AAA級企業(yè)信用等級證書
良好的信用是企業(yè)的核*心*競*爭力，是企業(yè)的“金名片”，較是客戶的“安心石”2022年12月，鵬城半導體技術（深圳）有限公司（簡稱：公司簡介 - 鵬城半導體技術（深圳）有限公司）企業(yè)信用等級評價認證，經權*威*機構評審，鵬城半導體喜獲“AAA*級企業(yè)信用等級”證書及“AAA信用企業(yè)等級”牌匾。信用等級認證采用國*際通行的“四等十級制”評級等級，分為：AAA、AA、A、BBB等十個級別。AAA級是企