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PVD技術(shù)在半導(dǎo)體器件中的應(yīng)用


    鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司專注于PVD鍍膜設(shè)備,化學(xué)氣相沉積,金剛石涂層等

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  • 等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備有哪些特點(diǎn)《臺風(fēng)資訊》

    等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學(xué)氣相沉積),另一個是PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積),它們都是在20世紀(jì)70年代發(fā)展起來的鍍膜工藝。其特點(diǎn)是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態(tài)無機(jī)物膜;2、等離子體清洗基材,使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜,內(nèi)應(yīng)力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產(chǎn)生微裂紋;4、低溫成膜,溫度對基材沒什么影響,避免了

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