PVD技術(shù)在半導(dǎo)體器件中的應(yīng)用

時(shí)間：2024-07-18作者：鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司瀏覽：190

鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司專注于PVD鍍膜設(shè)備,化學(xué)氣相沉積,金剛石涂層等

• 詞條

  詞條說明

• 真空鍍膜行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)，低耗能無污染先進(jìn)技術(shù)

  1、真空鍍膜行業(yè)技術(shù)水平及特點(diǎn)多功能磁控濺射儀（高真空磁控濺射鍍膜機(jī)）-鵬城半導(dǎo)體真空鍍膜是表面處理技術(shù)的一項(xiàng)分支，是指為了減少雜質(zhì)的干擾，在高度真空環(huán)境下，通過物理或化學(xué)手段，將金屬、非金屬或化合物材料（膜材）轉(zhuǎn)換成氣態(tài)或等離子態(tài)，并沉積于玻璃、金屬、陶瓷、塑料或**材料等固體材質(zhì)（簡(jiǎn)稱基材、基板或基片）表面形成薄膜的過程。利用真空鍍膜技術(shù)鍍制薄膜后，可使材料表面獲得新的復(fù)合性能并實(shí)現(xiàn)新型的工程

• 創(chuàng)芯未來 鵬城半導(dǎo)體亮相第四屆全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)（重慶）

  6月帶著憧憬與期待，在重慶這片沃土上與我們相遇，未來，初心依舊。*四屆**半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)（重慶）博覽會(huì)（簡(jiǎn)稱“GSIE 2022”），將于2022年6月29日-7月1日在重慶**博覽中心舉辦。鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司（簡(jiǎn)稱“鵬城半導(dǎo)體”）本次攜多功能磁控濺射儀解決方案、分子束外延薄膜生長(zhǎng)設(shè)備（MBE）解決方案、熱絲CVD金剛石解決方案等多個(gè)解決方案亮相本次展會(huì)。一起來先讀為快吧。多功能磁控濺射儀

• 化學(xué)氣相沉積設(shè)備（CVD）-小型管式LPCVD設(shè)備

  LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學(xué)反應(yīng)氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）?？捎糜诳茖W(xué)研究、實(shí)踐教學(xué)、小型器件制造。小型管式LPCVD設(shè)備設(shè)備結(jié)構(gòu)及特點(diǎn)1、小型化，方便實(shí)驗(yàn)室操作和使用，大幅降低實(shí)驗(yàn)成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片?；胖梅绞剑号渲萌N基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角?；螤铑愋停翰灰?guī)則形狀的散片、φ2～4

• 新聞快訊-鵬城半導(dǎo)體MOCVD設(shè)備

  材料的輸運(yùn)采取了**純的氣路系統(tǒng)，源的切換和輸入采用了多路組合閥進(jìn)氣技術(shù)。由于組合閥具有較小的死空間，使得源的殘留量非常少，有利于生長(zhǎng)具有陡峭界面的材料。采用壓差控制技術(shù)控制組合閥的旁路和主路之間的壓力，大大降低了源的壓力和濃度波動(dòng)，有利于材料生長(zhǎng)的重復(fù)性和穩(wěn)定性。采用了管道鑲嵌式進(jìn)氣噴頭，使反應(yīng)源在襯底表面均勻混合并反應(yīng)，大大降低了預(yù)反應(yīng)的發(fā)生。采用電阻式快速升降溫加熱爐。