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成像型微透鏡陣列作為常用的光路勻化元件,具備適用波長廣,成本低,勻化效果好的特點。使用微透鏡陣列進行光路勻化的常見方案有兩種,一種是單片微透鏡陣列,即雙面微透鏡陣列或稱雙面復(fù)眼透鏡。另一種是兩片,平凸型的復(fù)眼透鏡的雙微透鏡勻化光路。本文針對后者的勻化方案中,探討了子單元相對孔徑對成像均勻性的影響。兩種微透鏡勻化光路的方案中,第一種單片微透鏡陣列的,由于單片雙面的緊湊結(jié)構(gòu),多用于集成式光路。但是其可
選擇了六個在極紫外光譜中具有有用帶通的涂層進行研究:鋁、鋁/碳,鋁/碳/鈧,鈦,錫,和銀。這些濾波片通常用于0.1至80納米的區(qū)域,并有10到50納米的帶通。濾光材料涂層是由有經(jīng)驗的無支架濾光片供應(yīng)商在晶圓上涂抹的,以確保光學(xué)質(zhì)量是最先進的。涂層和非涂層光電二極管的輻射測量是通過美國國家標準技術(shù)研究所(NIST)的極紫外探測器標準進行的。該設(shè)施同時利用了NIST電子存儲環(huán)同步輻射源、SURF II
深圳維爾克斯專業(yè)代理長焦深DOE衍射光學(xué)元件,它能夠沿著光軸在焦距附近產(chǎn)生一個能量分布近乎均勻、焦深長度幾百微米到幾毫米的焦點。這種長焦點與普通焦點相比,寬度幾乎不變,但是焦點長度大大增加,因此特別適合材料的深度切割。這篇應(yīng)用文檔是為了便于行業(yè)同仁和用戶理解和使用長焦深DOE。長焦深DOE的工作原理為了便于理解,我們可以借用多焦點DOE的模型來解釋長焦深DOE的原理。多焦點DOE能夠?qū)⒁皇夥殖蓭?/p>
高光譜成像是一種表面測量方法,因此灰塵或任何遮蓋樣品表面的東西都會干擾掃描并阻礙測量。那么如何在多塵環(huán)境中操作高光譜相機測量樣品呢??灰塵出現(xiàn)在被測物體上干凈的樣品總是得到更好的測量,能提高它們的識別度。例如,在測量樣品核心部分時,必須在掃描之前清潔樣品。在回收過程中,灰塵或包裝標簽會阻礙系統(tǒng)的分揀精度。如果要分揀的材料無法清潔或充分暴露在攝像機下,則需要調(diào)整分揀算法以將這種情況考慮在內(nèi)
公司名: 深圳維爾克斯光電有限公司
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