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高性能紅外觀察儀VIR系列是在高級圖像轉換器的基礎上設計的,是由Optogama紅外觀察儀ABRIS M系列升級而來,主要是用于在350-2000nm光譜區(qū)域觀察紅外激光、LED、染料等紅外源的間接輻射。該紅外觀測儀設備重量輕,結構緊湊,可手持使用,post安裝有1/4-20內螺紋。VIR觀察儀具有較好的分辨率、紅外靈敏度和增強因子。此外,它可以與CCD相機適配器一起使用,用于PC和圖像的視頻注冊
首先介紹一下光的干涉。由于光的波動特性,若干列光波在空間相遇時,互相疊加或互相抵消,引起光強的重新分布,在某些區(qū)域始終加強,在某些區(qū)域始終減弱,從而出現(xiàn)了明暗相間的條紋,這種現(xiàn)象稱為光的干涉。使用光纖光譜儀測薄膜厚度上圖為使用海洋光學光纖光譜儀,利用干涉效應來測量薄膜厚度的原理圖。當一束光以θ1從薄膜表面入射,其中一部分光直接反射,另一部分光則以θ2進入薄膜發(fā)生折射,折射光經膜層下表面反射后,再經
ALPAO 發(fā)布了一款新的可變形反射鏡,以完善其自適應光學產品系列。這種新產品旨在適應工業(yè)應用:使自適應光學更簡單、更便宜。ALPAO設計制造的全新產品是模態(tài)變形鏡(DMM)。它允許前所未有地使用自適應光學?(AO)!它以大振幅和高精度提供最常見的光學像差的出色校正。ALPAO DMM對最常見的光學像差提供了出色的校正。具有?7?或?8?個控制通道
在半導體行業(yè)中,極小的表面缺陷和顆粒是一個主要問題,這會降低產量并耗費生產的時間和成本。因此,檢測半導體晶圓表面的缺陷和污染至關重要,這是在半導體計量行業(yè)許多客戶面臨的挑戰(zhàn)。晶圓表面檢測的快速且具有成本效益的方法之一是使用激光線照明和暗場/明場顯微鏡來檢測缺陷,通常在深紫外(DUV)波長下檢測100nm以下的缺陷。在這種方法中,Holoor指出當線沿徑向掃描時,晶圓旋轉,產生晶圓的大面積采樣,從而
公司名: 深圳維爾克斯光電有限公司
聯(lián)系人: 劉先生
電 話: 0755-84870203
手 機: 18926463275
微 信: 18926463275
地 址: 廣東深圳龍崗區(qū)龍崗區(qū)平湖街道華南城1號館
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