KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

時間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：55

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• HVA真空閥門成功應用于粒子系統(tǒng)

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• KRi 考夫曼離子源表面預清潔 Pre-clean 應用

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