KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

時間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：89

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• KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜

  合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室在對硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學(xué)性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n

• KRI 離子源應(yīng)用于車載AR-HUD 鍍膜

  ?HUD?已經(jīng)成為一種常見的汽車配置與功能,?通過它來直觀顯示速度、發(fā)動機(jī)轉(zhuǎn)速或其他懸停在駕駛員視野中的信息,?減少因低頭查看儀表盤而造成的分心,?提升駕駛.?目前量產(chǎn)的車用抬頭顯示?HUD?正在從風(fēng)擋型?W-HUD?逐漸向增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)型的?AR-HUD?發(fā)展：從單純的信息展示屏幕,

• HVA 矩形閥 Load-lock 典型應(yīng)用

  因產(chǎn)品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA 矩形閥?Load-lock 典型應(yīng)用上海伯東某生產(chǎn)原生多晶矽料生產(chǎn)設(shè)備, 矽片加工設(shè)備, 晶體矽電池生產(chǎn)設(shè)備企業(yè), 使用美國?HVA 矩形閥用于真空機(jī)臺的 Load-lock工位, HVA 矩形閥安裝在 2X18 英寸規(guī)格內(nèi)的矽片生產(chǎn)線上, 起到輔助傳遞矽片, 隔離真空腔室的作用.矽片比較薄, 一般

• 氦質(zhì)譜檢漏儀熱交換器檢漏

  氦質(zhì)譜檢漏儀熱交換器檢漏上海伯東德國 Pfeiffer 某客戶需要對體積 >1000L 的熱交換器進(jìn)行檢漏, 熱交換器內(nèi)部管子細(xì)長, 流導(dǎo)小, 需要盡可能的快速測試并要求清潔無油, 真空模式下, 熱交換器漏率要求 1x10-6 mbar l/s. 為了快速抽空, 選用輔助泵 + 氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 390, 實(shí)現(xiàn)快速檢漏！熱交換器檢漏方法：配置: ASM 380 (新款 ASM 390)