KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：68

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 模塊式檢漏儀應(yīng)用于氫能行業(yè)真空箱檢漏系統(tǒng)

  模塊式檢漏儀應(yīng)用于氫能行業(yè)真空箱檢漏系統(tǒng)在燃料電池中, 氫氣發(fā)生電化學(xué)反應(yīng)以產(chǎn)生電力并為汽車(chē)提供動(dòng)力. 燃料電池發(fā)電機(jī), 儲(chǔ)氣罐和配電管線(xiàn)需要密封, 防止發(fā)生可能影響性能和安全性的泄漏. 為滿(mǎn)足大批量生產(chǎn)需求, 通常使用自動(dòng)化真空箱檢漏系統(tǒng). 上海伯東德國(guó) Pfeiffer?檢漏模塊 ASI 35?作為自動(dòng)氦檢漏系統(tǒng)的**部件, 提供可靠, 可重復(fù)的泄露檢測(cè), 滿(mǎn)足氫能行業(yè)真空

• KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜

  合金化是提高過(guò)渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室在對(duì)硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學(xué)性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n

• HVA 真空閘閥在氣體管路系統(tǒng)應(yīng)用

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。美國(guó) HVA?真空閘閥在氣體管路系統(tǒng)應(yīng)用半導(dǎo)體工廠, 太陽(yáng)能光伏, LED, 鍍膜等行業(yè)在工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體, 氣體管路系統(tǒng)(真空管路)的作用是把各種氣體在滿(mǎn)足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下安全穩(wěn)定的供應(yīng)到工藝設(shè)備內(nèi). 美國(guó) HVA?真空閘閥廣泛用在氣體輸送環(huán)

• 分子泵組應(yīng)用于低溫真空探針臺(tái)

  Pfeiffer?分子泵組應(yīng)用于低溫真空探針臺(tái)真空探針臺(tái)一般用于復(fù)雜, 高速精密器件進(jìn)行表面觀測(cè)以及各種性能測(cè)試的儀器, 通過(guò)測(cè)試可以產(chǎn)品的質(zhì)量和性并縮減研發(fā)時(shí)間和器件制造工藝的成本. 探針臺(tái)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè), 光電行業(yè), 集成電路以及封裝的測(cè)試為什么需要真空環(huán)境?1. 真空探針臺(tái)通過(guò)搭配分子泵組, 配合真空吸附卡盤(pán)及真空吸附探針座的使用, 通過(guò)空氣壓縮, 固定樣品及探針座.2. 由