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什么是靶材?


    醴陵市利吉升新材料有限公司專注于高**靶材,鉑靶材,銀靶材,鈀靶材,釕靶材,鉻靶材等, 歡迎致電 18681059431

  • 詞條

    詞條說(shuō)明

  • 常見(jiàn)的金屬靶材有哪些?濺射靶材是否希缺資源?

    我們都掌握靶材便是快速荷能顆粒負(fù)電子的總體目標(biāo)原材料。磁控濺射靶材關(guān)鍵運(yùn)用于電子器件及信息技術(shù)產(chǎn)業(yè),如電子器件、信息內(nèi)容儲(chǔ)存、液晶顯示器、激光器儲(chǔ)存器、電子器件操縱元器件等;也可以運(yùn)用于玻璃鍍膜行業(yè);還能夠運(yùn)用于金屬?gòu)?fù)合材料、高溫耐腐蝕、高端裝飾用品等領(lǐng)域。 靶材類型比較多,有金屬類、鋁合金類、金屬氧化物類這些,用的領(lǐng)域也各有不同,運(yùn)用很普遍。那麼普遍的金屬靶材有什么?磁控濺射靶材是不是希缺資源?

  • 靶材在真空鍍膜中的應(yīng)用

    新型的濺鍍?cè)O(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,電漿中的陽(yáng)離子會(huì)加速?zèng)_向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面,這個(gè)沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成

  • 淺談半導(dǎo)體靶材

    靶材,特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)工藝,是制備晶圓、面板、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射,是制備薄膜材料的主要技術(shù),也是PVD的一種。它通過(guò)在PVD設(shè)備中用離子對(duì)目標(biāo)物進(jìn)行轟擊,使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出,從而在晶圓表面沉積,濺鍍形成金屬薄膜,其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱

  • 研發(fā)技術(shù)

    公司團(tuán)隊(duì)服務(wù)鍍膜領(lǐng)域十二年,對(duì)各材料的靶材研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、擁有成熟的經(jīng)驗(yàn);公司與國(guó)內(nèi)外各行業(yè)科研院所長(zhǎng)期合作,為眾多國(guó)內(nèi)外工程項(xiàng)目提供了優(yōu)質(zhì)的靶材產(chǎn)品;公司注重用戶實(shí)踐與產(chǎn)品研發(fā),取得多項(xiàng)專利和研發(fā)成果。

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