靶材在真空鍍膜中的應(yīng)用

時間：2019-12-17作者：醴陵市利吉升新材料有限公司瀏覽：719

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• 釕靶材廠家淺談常見的靶材

  釕靶材廠家淺談常見的靶材我們都了解靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。靶材種類比較多,有金屬類、合金類、氧化物類等等,用的行業(yè)也有所不同,應(yīng)用很廣泛。那么常見的金屬靶材有哪些?濺射靶材是否希缺資源?下面我們一起了解一下。一、常見

• 導(dǎo)體靶材行業(yè)市場、產(chǎn)品種類及技術(shù)壁壘分析

  1、 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)市場空間廣根據(jù)統(tǒng)計，2015 年全球半導(dǎo)體材料銷售額為435 億美元，其中晶圓制造材料銷售額為242 億美元，封裝材料為193 億美元。在晶圓制造材料中，濺射靶材約占芯片制造材料市場的2.6%。在封裝測試材料中，濺射靶材約占封裝測試材料市場的2.7%。從2011-2015年，世界半導(dǎo)體用靶極濺射材料市場從10.1億美元，增長至11.4億美元，復(fù)合增長率為3.1%。2016年

• 靶材在真空鍍膜中的應(yīng)用

  新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電（glow discharge）將氬氣（Ar）離子撞擊靶材（target）表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成

• 釕靶材的產(chǎn)品優(yōu)勢

  產(chǎn)品優(yōu)勢：1、耐化學(xué)腐蝕氧化鋯、氧化鋁陶瓷有很強(qiáng)的耐化學(xué)腐蝕的特性!2、耐摔性首家具備這個技術(shù), 陶瓷棒從高空跌落完好無損,耐摔!3、超耐磨氧化鋯、氧化鋁陶瓷結(jié)構(gòu)產(chǎn)品具有很強(qiáng)的耐磨性!4、耐高溫氧化鋯、氧化鋁陶瓷可耐高溫1600度以上!5、防靜電氧化鋯、氧化鋁陶瓷為防靜電材料, 適用無塵區(qū)域!6、防火性氧化鋯、氧化鋁陶瓷對燃燒的火焰有極強(qiáng)防護(hù)能力!