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創(chuàng)芯未來 鵬城半導(dǎo)體亮相第二屆碳基半導(dǎo)體材料與器件產(chǎn)業(yè)發(fā)展論壇
半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)高、進步快,一代產(chǎn)品需要一代工藝,而一代工藝需要一代設(shè)備。**半導(dǎo)體設(shè)備市場集中度高,主要有美日荷廠商壟斷,國內(nèi)自給率僅有 5%左右,國產(chǎn)替代空間巨大。尤其是隨著摩爾定律趨近極限,半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)進步放緩,國內(nèi)廠商與****技術(shù)差距正在逐漸縮短,未來 3-5 年將是半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)替代黃金戰(zhàn)略機遇期。鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司作為一家半導(dǎo)體材料、工藝和裝備的研發(fā)設(shè)計、生產(chǎn)制造集一體的
重磅-鵬城半導(dǎo)體子公司鵬城微納獲3項計算機軟件著作權(quán)登記證書!
近日,經(jīng)*人民共和國國家**審核,根據(jù)《zhrnghg計算機軟件保護條例》和《計算機軟件著作權(quán)登記辦法》的規(guī)定,“鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司-全資子公司鵬城微納技術(shù)(沈陽)有限公司”獲3項《zhrnghg國家**計算機軟件著作權(quán)登記證書》,分別是:《多功能磁控濺射系統(tǒng)軟件V1.0》、《高真空熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)軟件V1.0》、《立式多功能熱絲CVD沉積系統(tǒng)軟件V1.0》。從頒證之日起,該3
化學(xué)氣相沉積設(shè)備(CVD)-小型管式LPCVD設(shè)備
LPECVD是在低壓高溫的條件下,通過化學(xué)反應(yīng)氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜)??捎糜诳茖W(xué)研究、實踐教學(xué)、小型器件制造。小型管式LPCVD設(shè)備設(shè)備結(jié)構(gòu)及特點1、小型化,方便實驗室操作和使用,大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸;每次裝片1~3片?;胖梅绞剑号渲萌N基片托架,豎直、水平臥式、帶傾角?;螤铑愋停翰灰?guī)則形狀的散片、φ2~4
中國材料大會|鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司
會議時間:2024年7月8-11日會議地點:廣州白云**會議中心主辦單位:中國材料研究學(xué)會“中國材料大會”是中國材料研究學(xué)會的學(xué)術(shù)年會,是重要的系列品牌會議之一,是中國新材料界學(xué)術(shù)水平較高、涉及領(lǐng)域較廣、*動態(tài)較新的****學(xué)術(shù)大會,是面向國家重大需求、推動新材料*重大突破的高水平品牌大會。為推動經(jīng)濟社會高質(zhì)量發(fā)展,加快建設(shè)科技強國,實現(xiàn)高水平科技自立自強,擬于2024年7月8-11日在廣東省廣
公司名: 鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司
聯(lián)系人: 戴朝蘭
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供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 小型 PC08 化學(xué)氣相沉積小型LPCVD設(shè)備
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 PC07 化學(xué)氣相沉積LPCVD設(shè)備
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 高真空 PC06 等離子體增強化學(xué)氣相沉積PECVD
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 金剛石散熱晶圓片 襯底
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 TGV/TSV /TMV 高真空磁控濺射鍍膜機
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 高真空磁控濺射/離子輔助/多弧復(fù)合鍍膜機
生產(chǎn)型 高真空磁控濺射及離子輔助復(fù)合鍍膜機
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 高真空磁控濺射鍍膜機
公司名: 鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司
聯(lián)系人: 戴朝蘭
手 機: 13632750017
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