重磅-鵬城半導體子公司鵬城微納獲3項計算機軟件著作權登記證書！

時間：2022-07-28

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

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鵬城半導體|HFCVD熱絲化學氣相沉積設備高性價比生產廠家臺風快訊
金剛石是一種典型的多功能限材料，在電學、光學、熱學、力學聲學和電化學方面具有優(yōu)異性能，在眾多GAO*XIN*技術領域具有廣闊的應用前景。20世紀80年代之后，化學氣相沉積（CVD）技術制備金剛石涂層促進了其廣泛的應用，引發(fā)了席卷的“金剛石熱”。90年代后，隨著金剛石涂層工業(yè)化制備技術的出現(xiàn)，金剛石涂層產業(yè)開萌生。金剛石涂層工具、金剛石熱沉、金剛石光學窗口、金剛石膜基探測器及傳感器和金剛石電等一系列
鵬城半導體榮膺國家高新技術企業(yè)，引領納米與原子制造技術新征程
在科技飛速發(fā)展的當下，半導體行業(yè)作為現(xiàn)代信息技術的基石，正不斷推動著各個領域的創(chuàng)新與變革。近日，鵬城半導體技術（深圳）有限公司憑借其**的技術創(chuàng)新能力和在半導體領域的**貢獻，成功獲得國家**企業(yè)認定。這一殊榮不僅是對鵬城半導體過往努力的**，較標志著其在納米與原子制造技術領域的良好地位得到了*認證。鵬城半導體成立于 2021 年，由哈爾濱工業(yè)大學（深圳）與擁有多年實踐經驗的工程師團隊共
化學氣相沉積設備（CVD）-小型管式LPCVD設備
LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）?？捎糜诳茖W研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設備設備結構及特點1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片?；胖梅绞剑号渲萌N基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角?；螤铑愋停翰灰?guī)則形狀的散片、φ2～4
真空鍍膜行業(yè)發(fā)展趨勢，低耗能無污染先進技術
1、真空鍍膜行業(yè)技術水平及特點多功能磁控濺射儀（高真空磁控濺射鍍膜機）-鵬城半導體真空鍍膜是表面處理技術的一項分支，是指為了減少雜質的干擾，在高度真空環(huán)境下，通過物理或化學手段，將金屬、非金屬或化合物材料（膜材）轉換成氣態(tài)或等離子態(tài)，并沉積于玻璃、金屬、陶瓷、塑料或**材料等固體材質（簡稱基材、基板或基片）表面形成薄膜的過程。利用真空鍍膜技術鍍制薄膜后，可使材料表面獲得新的復合性能并實現(xiàn)新型的工程