何時(shí)對(duì)零件執(zhí)行真空浸漬

時(shí)間：2022-06-25作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：272

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的技術(shù)特點(diǎn)有哪些？

  真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的技術(shù)特點(diǎn) 真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應(yīng)沉積鍍膜，實(shí)際上，這種工藝可以沉積任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜。此外，該工藝也特別適合用于多層膜結(jié)構(gòu)的沉積，包括了光學(xué)設(shè)計(jì)、彩色膜、耐磨涂層、納米層壓板、**晶格鍍膜、絕緣膜等。早在1970年，已經(jīng)有了高質(zhì)量的光學(xué)薄膜沉積案例，開(kāi)發(fā)了多種光學(xué)膜層材料。這些材料包括有透明導(dǎo)電材料、半導(dǎo)體、聚合物、氧化物、碳化物以及氮化物等，至于氟

• 影響磁控濺射中靶中毒的因素有哪些？

  一、靶面金屬化合物的形成由金屬靶面通過(guò)反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過(guò)程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子，通常是放熱反應(yīng)，反應(yīng)生成熱必須有傳導(dǎo)出去的途徑，否則該化學(xué)反應(yīng)無(wú)法繼續(xù)進(jìn)行。在真空條件下氣體之間不可能進(jìn)行熱傳導(dǎo)，所以化學(xué)反應(yīng)必須在一個(gè)固體表面進(jìn)行。反應(yīng)濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行。在基片表面生成化合物是我們的目的，在其

• 卷繞真空鍍膜機(jī)的簡(jiǎn)介與應(yīng)用

  ? ? ??卷繞式真空鍍膜設(shè)備,包括設(shè)置有放卷裝置、鍍膜室和收卷裝置的真空腔體,鍍膜室設(shè)置有與驅(qū)動(dòng)電機(jī)輸出軸連接的鍍膜輥,放卷裝置包括一放卷輥和一主動(dòng)的送料輥輪對(duì),送料輥輪對(duì)與鍍膜輥之間設(shè)置有張力釋放輥,該張力釋放輥是使料卷在送料輥輪對(duì)與張力釋放輥之間保持松弛狀態(tài)的輥輪；收卷裝置包括一主動(dòng)的收卷輥,鍍膜輥與收卷輥之間亦設(shè)置有送料輥輪對(duì),該送料輥輪對(duì)與收卷輥之

• 真空鍍膜設(shè)備價(jià)格

  關(guān)于真空鍍膜設(shè)備價(jià)格問(wèn)題，一直都是大家較關(guān)心的。今天，廣東振華科技小編就和大家解答一下，真空鍍膜設(shè)備大概多少錢(qián)一臺(tái)。 真空鍍膜設(shè)備價(jià)格，也要看工藝，一般來(lái)說(shuō)，蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備機(jī)在15-40萬(wàn)，多弧離子鍍膜設(shè)備在30-120萬(wàn)，磁控濺射鍍膜設(shè)備在60-100萬(wàn)、工具鍍膜設(shè)備在70-100萬(wàn)。 看了上面的價(jià)格，很多小伙伴開(kāi)始有疑問(wèn)，為什么真空鍍膜設(shè)備價(jià)格區(qū)間這么大。其實(shí)這也是配置決定的。有的品牌真空