詞條
詞條說明
? ? ? ? ?磁控濺射是一個運行模式的二級濺射。它與二,四級濺射的主要不同點;一是,在濺射的陰極靶后面設置了*磁鋼或電磁鐵。在靶面上產(chǎn)生水平分量的磁場或垂直分量的磁場,由氣體放電產(chǎn)生的電子被束縛在靶面附近的等離子區(qū)內(nèi)的特定軌道內(nèi)運轉;受電場力和磁場力的復合作用,沿一定的跑道作旋轉輪轉圈。? ? ? ?
? ? ??卷繞式真空鍍膜設備,包括設置有放卷裝置、鍍膜室和收卷裝置的真空腔體,鍍膜室設置有與驅動電機輸出軸連接的鍍膜輥,放卷裝置包括一放卷輥和一主動的送料輥輪對,送料輥輪對與鍍膜輥之間設置有張力釋放輥,該張力釋放輥是使料卷在送料輥輪對與張力釋放輥之間保持松弛狀態(tài)的輥輪;收卷裝置包括一主動的收卷輥,鍍膜輥與收卷輥之間亦設置有送料輥輪對,該送料輥輪對與收卷輥之
一、靶面金屬化合物的形成由金屬靶面通過反應濺射工藝形成化合物的過程中,化合物是在哪里形成的呢?由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學反應生成化合物原子,通常是放熱反應,反應生成熱必須有傳導出去的途徑,否則該化學反應無法繼續(xù)進行。在真空條件下氣體之間不可能進行熱傳導,所以化學反應必須在一個固體表面進行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進行。在基片表面生成化合物是我們的目的,在其
工件或工具表面的條件對涂層的性能有決定性影響。要想有質(zhì)量良好的涂層,工件需經(jīng)研磨或拋光,并針對運輸進行防腐處理。一、研磨的表面不能出現(xiàn)淺裂紋、氧化皮或再硬化燒傷。 二、研磨期間使用的冷卻液不能包含任何磺酸鈣、硼或碘化合物、或含硅的消泡劑。 三、研磨過的表面、用磨刀石磨過的表面、拋光的表面或用磨盤磨過的表面必須沒有研磨劑和殘余物。 四、刀刃必須無毛刺,以便它們不會在**次使用時斷裂。 五、在EDM(
公司名: 廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司
聯(lián)系人: 吳先生
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地 址: 廣東廣州黃埔區(qū)起云路8號5棟411房、5棟412房
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網(wǎng) 址: gdzhenhuavac.b2b168.com
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