磁控濺射鍍膜設(shè)備工作原理

時(shí)間：2022-05-21作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：221

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  詞條說明

• 磁控濺射鍍膜設(shè)備

  ? ? ? ? 該設(shè)備集磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體，對(duì)提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求，可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置，其靶位分布可靈活調(diào)整，膜層均勻性優(yōu)越，配備不同的靶材，可鍍制出性能較好的復(fù)合膜層。設(shè)備所鍍制的膜層具有附著力強(qiáng)，致密性高的優(yōu)點(diǎn)，可有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性、耐磨性及產(chǎn)品表面硬度，滿足了

• 卷繞真空鍍膜機(jī)的簡(jiǎn)介與應(yīng)用

  ? ? ??卷繞式真空鍍膜設(shè)備,包括設(shè)置有放卷裝置、鍍膜室和收卷裝置的真空腔體,鍍膜室設(shè)置有與驅(qū)動(dòng)電機(jī)輸出軸連接的鍍膜輥,放卷裝置包括一放卷輥和一主動(dòng)的送料輥輪對(duì),送料輥輪對(duì)與鍍膜輥之間設(shè)置有張力釋放輥,該張力釋放輥是使料卷在送料輥輪對(duì)與張力釋放輥之間保持松弛狀態(tài)的輥輪；收卷裝置包括一主動(dòng)的收卷輥,鍍膜輥與收卷輥之間亦設(shè)置有送料輥輪對(duì),該送料輥輪對(duì)與收卷輥之

• 磁控濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)有哪些？

  在真空鍍膜技術(shù)中，磁控濺射鍍膜技術(shù)屬于比較常見的一種鍍膜技術(shù)。今天，廣東真空鍍膜設(shè)備廠家就告訴大家，磁控濺射鍍膜技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)： 1、沉積速度快、基材溫升低、對(duì)膜層的損傷?。?2、對(duì)于大部分材料，只要能制成靶材，就可以實(shí)現(xiàn)濺射； 3、濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合較好； 4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好； 5、濺射工藝可重復(fù)性好，可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜； 6、能夠控制

• 磁控濺射鍍膜設(shè)備工作原理

  ? ? ? ? ?磁控濺射是一個(gè)運(yùn)行模式的二級(jí)濺射。它與二，四級(jí)濺射的主要不同點(diǎn)；一是，在濺射的陰極靶后面設(shè)置了*磁鋼或電磁鐵。在靶面上產(chǎn)生水平分量的磁場(chǎng)或垂直分量的磁場(chǎng)，由氣體放電產(chǎn)生的電子被束縛在靶面附近的等離子區(qū)內(nèi)的特定軌道內(nèi)運(yùn)轉(zhuǎn)；受電場(chǎng)力和磁場(chǎng)力的復(fù)合作用，沿一定的跑道作旋轉(zhuǎn)輪轉(zhuǎn)圈。? ? ? ?