詞條
詞條說明
工件或工具表面的條件對(duì)涂層的性能有決定性影響。要想有質(zhì)量良好的涂層,工件需經(jīng)研磨或拋光,并針對(duì)運(yùn)輸進(jìn)行防腐處理。一、研磨的表面不能出現(xiàn)淺裂紋、氧化皮或再硬化燒傷。 二、研磨期間使用的冷卻液不能包含任何磺酸鈣、硼或碘化合物、或含硅的消泡劑。 三、研磨過的表面、用磨刀石磨過的表面、拋光的表面或用磨盤磨過的表面必須沒有研磨劑和殘余物。 四、刀刃必須無毛刺,以便它們不會(huì)在**次使用時(shí)斷裂。 五、在EDM(
磁控濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)有哪些?
在真空鍍膜技術(shù)中,磁控濺射鍍膜技術(shù)屬于比較常見的一種鍍膜技術(shù)。今天,廣東真空鍍膜設(shè)備廠家就告訴大家,磁控濺射鍍膜技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn): 1、沉積速度快、基材溫升低、對(duì)膜層的損傷??; 2、對(duì)于大部分材料,只要能制成靶材,就可以實(shí)現(xiàn)濺射; 3、濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合較好; 4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好; 5、濺射工藝可重復(fù)性好,可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜; 6、能夠控制
? ? ? ? 該設(shè)備集磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體,對(duì)提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求,可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置,其靶位分布可靈活調(diào)整,膜層均勻性優(yōu)越,配備不同的靶材,可鍍制出性能較好的復(fù)合膜層。設(shè)備所鍍制的膜層具有附著力強(qiáng),致密性高的優(yōu)點(diǎn),可有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性、耐磨性及產(chǎn)品表面硬度,滿足了
離子鍍的原理:離子鍍是在真空室中,利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時(shí),將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者**結(jié)合起來, 不僅能明顯地改進(jìn)了膜質(zhì)量,而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍。其優(yōu)點(diǎn)是薄膜 附著力 強(qiáng),繞射性好,膜材廣泛等。多弧離子鍍工藝的**特點(diǎn)是我們可以通過產(chǎn)生由高度電離的蒸發(fā)物質(zhì)文化組成的等離子體,其中離子之間
公司名: 廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司
聯(lián)系人: 吳先生
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微 信: 18011984646
地 址: 廣東廣州黃埔區(qū)起云路8號(hào)5棟411房、5棟412房
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網(wǎng) 址: gdzhenhuavac.b2b168.com
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