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影響磁控濺射中靶中毒的因素有哪些?


    廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司專(zhuān)注于真空鍍膜,真空鍍膜設(shè)備,真空鍍膜生產(chǎn)商等

  • 詞條

    詞條說(shuō)明

  • 磁控濺射鍍膜設(shè)備工作原理

    ? ? ? ? ?磁控濺射是一個(gè)運(yùn)行模式的二級(jí)濺射。它與二,四級(jí)濺射的主要不同點(diǎn);一是,在濺射的陰極靶后面設(shè)置了*磁鋼或電磁鐵。在靶面上產(chǎn)生水平分量的磁場(chǎng)或垂直分量的磁場(chǎng),由氣體放電產(chǎn)生的電子被束縛在靶面附近的等離子區(qū)內(nèi)的特定軌道內(nèi)運(yùn)轉(zhuǎn);受電場(chǎng)力和磁場(chǎng)力的復(fù)合作用,沿一定的跑道作旋轉(zhuǎn)輪轉(zhuǎn)圈。? ? ? ?

  • 影響磁控濺射中靶中毒的因素有哪些?

    一、靶面金屬化合物的形成由金屬靶面通過(guò)反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過(guò)程中,化合物是在哪里形成的呢?由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子,通常是放熱反應(yīng),反應(yīng)生成熱必須有傳導(dǎo)出去的途徑,否則該化學(xué)反應(yīng)無(wú)法繼續(xù)進(jìn)行。在真空條件下氣體之間不可能進(jìn)行熱傳導(dǎo),所以化學(xué)反應(yīng)必須在一個(gè)固體表面進(jìn)行。反應(yīng)濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行。在基片表面生成化合物是我們的目的,在其

  • 何時(shí)對(duì)零件執(zhí)行真空浸漬

    是否應(yīng)該在完成之前或之后進(jìn)行真空浸漬?粉末涂料,油漆,鉻酸鹽轉(zhuǎn)化和陽(yáng)極氧化是壓鑄零件的常用表面處理,可改善其性能或外觀(guān)。在某些壓鑄應(yīng)用中,組件還必須密封以容納加壓的流體或氣體。公司使用真空浸漬法通過(guò)密封內(nèi)部泄漏通道而不會(huì)影響鑄件的任何其他特征來(lái)滿(mǎn)足這些要求。一般規(guī)則是,在任何表面拋光之前都應(yīng)進(jìn)行真空浸漬。這將密封孔隙并消除可能因除氣,化學(xué)相容性或預(yù)處理滲出而導(dǎo)致的任何失效模式。以下是在涂飾后進(jìn)行浸

  • 磁控濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)有哪些?

    在真空鍍膜技術(shù)中,磁控濺射鍍膜技術(shù)屬于比較常見(jiàn)的一種鍍膜技術(shù)。今天,廣東真空鍍膜設(shè)備廠(chǎng)家就告訴大家,磁控濺射鍍膜技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn): 1、沉積速度快、基材溫升低、對(duì)膜層的損傷?。?2、對(duì)于大部分材料,只要能制成靶材,就可以實(shí)現(xiàn)濺射; 3、濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合較好; 4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好; 5、濺射工藝可重復(fù)性好,可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜; 6、能夠控制

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