詞條
詞條說(shuō)明
?針對(duì)光學(xué)和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問(wèn)題,設(shè)計(jì)了一種磁控濺射沉積系統(tǒng),系統(tǒng)包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽(yáng)極清洗裝置。主要結(jié)論有:(1)在磁控濺射靶裝置設(shè)計(jì)中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達(dá)10-6 Pa;采用旋轉(zhuǎn)磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時(shí)避免了靶裝置在預(yù)先清洗時(shí)的污染;設(shè)計(jì)了靶裝置的驅(qū)動(dòng)端,完成了電機(jī)
?微型探針臺(tái)尺寸小、重量輕,具備變溫測(cè)試及真空測(cè)試功能,適用于科研工作,也適用于與其他儀器聯(lián)用,是一款非常有特點(diǎn)的微探針系統(tǒng)。? ? ? 鄭科探真空探針臺(tái)主要應(yīng)用于傳感器,半導(dǎo)體,光電,集成電路以及封裝的測(cè)試。 廣泛應(yīng)用于復(fù)雜、高速器件的精密電氣測(cè)量的研發(fā),旨在確保質(zhì)量及可靠性,并縮減研發(fā)時(shí)間和器件制造工藝的成本。儀器特點(diǎn):工作距離短、尺寸小,帶有視窗,可以
真空探針臺(tái)優(yōu)勢(shì)和適用于那些科研
KT-Z1604T探針臺(tái)主要應(yīng)用于傳感器,半導(dǎo)體,光電,集成電路以及封裝的測(cè)試。 廣泛應(yīng)用于復(fù)雜、高速器件的精密電氣測(cè)量的研發(fā),旨在確保質(zhì)量及可靠性,并縮減研發(fā)時(shí)間和器件制造工藝的成本。??? 該探針臺(tái)的承載臺(tái)為60x60不銹鋼臺(tái)面,臺(tái)面較高可升溫到較高350℃。真空腔體設(shè)計(jì)有進(jìn)氣口和抽真空接口。探針臂為X/Y/Z三軸移動(dòng),三個(gè)方向均可在真空環(huán)境下精密移位調(diào)節(jié),其中X
小型濺射儀儀問(wèn)儀答近小伙伴對(duì)于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問(wèn)的問(wèn)題比較多,今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見(jiàn)的技術(shù)問(wèn)題:1、膜厚檢測(cè)儀原理:膜厚監(jiān)測(cè)儀是采用石英晶體振蕩原理,利用頻率測(cè)量技術(shù)加上的數(shù)學(xué)算法,進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過(guò)程中,對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。2、濺射儀是否可以鍍鎳:可以鍍鎳 ?但是 鎳是導(dǎo)磁金屬
公司名: 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
聯(lián)系人: 裴先生
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手 機(jī): 15136134901
微 信: 15136134901
地 址: 河南鄭州中原區(qū)鄭州**產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)西三環(huán)路289號(hào)6幢11單元3層73號(hào)
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