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濕度和氣體濃度實(shí)驗(yàn)設(shè)備產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)


    鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

  • 詞條

    詞條說(shuō)明

  • 高溫真空探針熱臺(tái)的使用場(chǎng)景

    1000度高溫真空探針臺(tái),主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、材料科學(xué)、納米技術(shù)、光電子、薄膜技術(shù)等領(lǐng)域,具有以下用途:1. 半導(dǎo)體器件測(cè)試與表征:用于不同溫度下的半導(dǎo)體料件、電子器件和光電子器件的性能測(cè)試和分析。2. 材料性能表征:研究和測(cè)試材料在不同溫度下的電學(xué)、磁學(xué)、光學(xué)等性能,以及材料的穩(wěn)定性和可靠性。3. 納米結(jié)構(gòu)與納米器件研究:在納米尺度上測(cè)量納米結(jié)構(gòu)與納米器件的電學(xué)性能,及其在高溫真空環(huán)境中的穩(wěn)定性和

  • PVD制備K型薄膜熱電偶的研究

    熱電偶元件是在工業(yè)、科研中廣泛使用的一種溫度傳感器,具有測(cè)溫范圍廣,堅(jiān)固耐用,無(wú)自發(fā)熱現(xiàn)象,使用方便等優(yōu)點(diǎn)。薄膜熱電偶除了繼承上述普通熱電偶的優(yōu)點(diǎn)外,還具有熱容小,響應(yīng)速度快,幾乎不占用空間,對(duì)被測(cè)物體影響小的優(yōu)點(diǎn)。本研究為制備K型薄膜熱電偶選擇了電子束蒸發(fā)鍍,磁控濺射,多弧離子鍍?nèi)NPVD方法。其中一部分樣片的NiCr/NiSi薄膜均由磁控濺射均由磁控濺射沉積,另一部分樣片的NiCr薄膜由磁控濺

  • 掃描探針顯微鏡多功能組合探針系統(tǒng)研制

    掃描探針顯微鏡是目**種用途廣泛的表面分析儀器,它不僅廣泛應(yīng)用于物理、化學(xué)、生物、醫(yī)學(xué)等基礎(chǔ)研究領(lǐng)域,還在微納制造和微電子等的應(yīng)用研究領(lǐng)域中發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用。然而,目前商業(yè)化的掃描探針顯微鏡主要為單一探針的工作模式,其功能相對(duì)單一,難以實(shí)現(xiàn)一些較為復(fù)雜的實(shí)驗(yàn)及檢測(cè)功能。? ? 例如,在特殊環(huán)境下(如真空或輻射環(huán)境)的微觀磨損實(shí)驗(yàn)中,若采用單一探針模式,在完成磨損實(shí)驗(yàn)后,需

  • 磁控濺射沉積系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    ?針對(duì)光學(xué)和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問(wèn)題,設(shè)計(jì)了一種磁控濺射沉積系統(tǒng),系統(tǒng)包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽(yáng)極清洗裝置。主要結(jié)論有:(1)在磁控濺射靶裝置設(shè)計(jì)中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達(dá)10-6 Pa;采用旋轉(zhuǎn)磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時(shí)避免了靶裝置在預(yù)先清洗時(shí)的污染;設(shè)計(jì)了靶裝置的驅(qū)動(dòng)端,完成了電機(jī)

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