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磁控濺射技術(shù)原理及應用簡介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積(PVD)的方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好,成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點。傳統(tǒng)的濺射技術(shù)的工作原理是:在高真空的條件下,入射離子(Ar+)在電場的作用下轟擊靶材,使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動能脫離靶材表面,沉積在基片表面形成薄膜。但是,電子會受到電場和磁場的作用,產(chǎn)生漂移,因而導致傳濺射效率低,電
高低溫探針臺-解釋塞貝克系數(shù)測量原理及系數(shù)
塞貝克系數(shù)(Seebeck Coefficient)也稱為熱電偶效應或Seebeck效應,是指兩種不同導體(或半導體)材料在一定溫差下產(chǎn)生熱電動勢的現(xiàn)象。塞貝克系數(shù)是研究熱電材料(將熱能轉(zhuǎn)化為電能的材料)非常重要的一個參數(shù),它用來衡量材料在一定溫差下產(chǎn)生的熱電壓。?塞貝克系數(shù)的測量方法有很多種,其中一種常用的方法是恒流法。準備一個熱電偶,它由兩種不同材料的導線組成。然后將熱電偶的其中一個
集成電路自動化裝備-探針臺是晶圓測試領(lǐng)域研究的熱點。由于晶圓片上晶粒很小,達到微米級,所以要求探針臺要保持很高的定位精度和運動精度才能保證探針與晶粒的準確對針和測試。因此,本文主要研究的問題是如何保證探針臺高精密控制,從而達到微米級定位要求。? ? ? ?本文來自于國家02專項-面向12”晶圓片的全自動探針臺關(guān)鍵技術(shù)研究。首先,本文介紹了探針臺兩大部分-LO
濕度和氣體濃度實驗設(shè)備產(chǎn)品優(yōu)勢
這個帶有濕度控制的氣體濃度發(fā)生器具有一系列強大的功能和性能參數(shù),特別適合需要在高濕度和寬范圍氣體濃度中準確控制和檢測的應用。以下是一些關(guān)鍵的性能參數(shù)和特性:- AI智能控制算法:采用**的AI智能控制算法,能夠在大范圍的氣體濃度比例下準確穩(wěn)定地控制氣體濕度。- 寬廣的濃度稀釋范圍:該設(shè)備的濃度稀釋范圍為1-5000倍,適應各種應用環(huán)境。- 高精度流量檢測:流量檢測精度可達到±1% F.S,流量線性
公司名: 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
聯(lián)系人: 裴先生
電 話:
手 機: 15136134901
微 信: 15136134901
地 址: 河南鄭州中原區(qū)鄭州**產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)西三環(huán)路289號6幢11單元3層73號
郵 編:
網(wǎng) 址: zzketan.b2b168.com
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