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等離子清洗機提升電極片的粘接性能


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    詞條說明

  • 等離子清洗機之表面活化改性功能

    等離子清洗機在表面工程應用,包括表面清洗、表面活化、表面滅菌、表面能蝕變、提高表面潤濕性能、粘接和粘附的表面制備、表面化學改性以及表面處理。通過活化、接枝和表面包覆對聚合物和生物材料進行表面刻蝕、表面活化處理。工業(yè)生產中的清洗概念很廣,包括任何與去除污染物有關的工藝,在不破壞材料表面特性的前提下,有效地清除殘留在材料上的微塵,有機雜物及金屬離子。傳統(tǒng)的清洗方法不能完全將材料表面薄膜去除,而會留下一

  • 等離子清洗機,LED行業(yè)的處理

    等離子清洗機廣泛應用于LED、LCD、LCM、手機配件、外殼、光學元件、光學鏡頭、電子芯片、集成電路、硬件、精密部件、塑料制品、生物材料、醫(yī)療器械、晶圓等表面進行清洗活化處理。等離子清洗機有幾種稱謂,英文叫(Plasma Cleaner)又稱等離子體清洗機,等離子清洗器,等離子清洗儀,等離子刻蝕機,等離子表面處理機,電漿清洗機,plasma清洗機,等離子去膠機,等離子清洗設備。等離子清洗機/等離子

  • 等離子清洗機,噴碼前的處理

    等離子清洗機能使材料表面發(fā)生多種的物理、化學變化,或產生刻蝕而粗糙,或形成致密的交聯層,或引入含氧級性基團,使親水性、粘結性、可染色性、生物相容性及電性能分別得到改善。在適宜的工藝條件下處理材料表面,使材料的表面形態(tài)發(fā)生了變化,引入了多種含氧基團,使表面由非級性、難粘性轉為有一定級性、易粘性和親水性,有利于粘結、涂覆和印刷等離子清洗機有幾種稱謂,英文叫(Plasma Cleaner)又稱等離子體清

  • 等離子清洗機,晶圓加工前的后端封裝工藝

    硅片去除光刻膠,一般都是采用等離子處理機的干洗清洗方式,以解決光刻膠問題。半導體等離子清洗機是晶圓加工前的后端封裝工藝,是晶圓扇出、晶圓級封裝、3D封裝、倒裝片和傳統(tǒng)封裝的理想選擇。圓晶封裝前采用等離子體清洗機處理的目的是去除表面層中的無機物,減少氧化層,增加銅表面層的粗糙度,提高產品的可靠性。半導體等離子清洗設備支持直徑75mm至300mm的圓形或方形晶片、基片的自動處理。另外,可以根據晶片的厚

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