等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用

時(shí)間：2022-04-06作者：煙臺(tái)金鷹科技有限公司瀏覽：263

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• 詞條

  詞條說明

• 等離子體清洗機(jī)及設(shè)備在干法清洗的優(yōu)勢

  工業(yè)生產(chǎn)中的清洗概念很廣，包括任何與去除污染物有關(guān)的工藝，在不破壞材料表面特性的前提下，有效地清除殘留在材料上的微塵，有機(jī)雜物及金屬離子。現(xiàn)等離子清洗機(jī)通過對(duì)樣品表面進(jìn)行改性（親水性），同時(shí)除掉表面有機(jī)物，使多種材料之間能夠進(jìn)行貼合、涂覆、鍍膜等工藝操作。從研究開發(fā)到工藝生產(chǎn)使用，從表面微細(xì)加工到表面處理改質(zhì)效果都非常好，應(yīng)用廣泛。如今應(yīng)用研究于物理化學(xué)清洗的方法，大致分為兩類：干法清洗和濕法清洗

• 半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域等離子清洗機(jī)的應(yīng)用

  等離子體清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于電子行業(yè)、手機(jī)制造業(yè)、汽車制造、紡織、生物醫(yī)學(xué)、新能源及航天航空等行業(yè)。如電子器件的涂覆處理、PC塑框粘接前處理、機(jī)殼、按鍵鈕等結(jié)件表面噴油絲?。籔CB表面除膠除污清潔，鏡片粘前處理；電線，電纜噴碼前處理；等離子清洗機(jī)在引線鍵合、去除表面沾污等半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的應(yīng)用:聚合物剝離,金屬剝離,掩膜材料去除,高劑量離子注入后光刻膠去除,碳化硅、氮化鎵、砷化鎵、磷化銦生產(chǎn)線光刻膠去除

• 等離子清洗機(jī)，等離子去膠機(jī)工藝原理及使用

  等離子清洗機(jī)，等離子去膠機(jī)工藝原理及使用 1) 等離子清洗機(jī)，等離子去膠機(jī)反應(yīng)機(jī)理： ? ?在干法等離子去膠技術(shù)中，氧是首要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機(jī)反響室中受高頻及微波能量效果，電離發(fā)生氧離子、游離態(tài)氧原子 O*、氧分子和電子等混合的等離子體，其間具有強(qiáng)氧化才能的游離態(tài)氧原子 （約占 10-20%）在高頻電壓效果下與光刻膠膜反響： O2→O*+ O*， CxHy + O

• Plasma Cleaner等離子去膠清洗機(jī)在LED封裝制造中的應(yīng)用

  Plasma Cleaner等離子清洗/去膠機(jī)是無任何環(huán)境污染的新型清洗方式，是所有清洗方法中最為的剝離式清洗，最大優(yōu)點(diǎn)在于清洗后無廢液，最大特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型均可處理，如金屬、半導(dǎo)體、氧化物及粉體或時(shí)顆粒狀材料的等離子表面改性處理，包括：等離子清洗、活化、刻蝕、沉積、聚合、接枝、污染物去除、表面化學(xué)改性、聚合物植、表面涂覆等。為所處理的材料表面帶來超潔凈、殺菌、提高濕潤性轉(zhuǎn)變，表面