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等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備有哪些特點《臺風(fēng)資訊》
等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學(xué)氣相沉積),另一個是PECVD(等離子體增強化學(xué)氣相沉積),它們都是在20世紀70年代發(fā)展起來的鍍膜工藝。其特點是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態(tài)無機物膜;2、等離子體清洗基材,使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜,內(nèi)應(yīng)力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產(chǎn)生微裂紋;4、低溫成膜,溫度對基材沒什么影響,避免了
材料的輸運采取了**純的氣路系統(tǒng),源的切換和輸入采用了多路組合閥進氣技術(shù)。由于組合閥具有較小的死空間,使得源的殘留量非常少,有利于生長具有陡峭界面的材料。采用壓差控制技術(shù)控制組合閥的旁路和主路之間的壓力,大大降低了源的壓力和濃度波動,有利于材料生長的重復(fù)性和穩(wěn)定性。采用了管道鑲嵌式進氣噴頭,使反應(yīng)源在襯底表面均勻混合并反應(yīng),大大降低了預(yù)反應(yīng)的發(fā)生。采用電阻式快速升降溫加熱爐。
重磅-鵬城半導(dǎo)體子公司鵬城微納獲3項計算機軟件著作權(quán)登記證書!
近日,經(jīng)*人民共和國國家**審核,根據(jù)《zhrnghg計算機軟件保護條例》和《計算機軟件著作權(quán)登記辦法》的規(guī)定,“鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司-全資子公司鵬城微納技術(shù)(沈陽)有限公司”獲3項《zhrnghg國家**計算機軟件著作權(quán)登記證書》,分別是:《多功能磁控濺射系統(tǒng)軟件V1.0》、《高真空熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)軟件V1.0》、《立式多功能熱絲CVD沉積系統(tǒng)軟件V1.0》。從頒證之日起,該3
鵬城半導(dǎo)體亮相第八屆國際第三代半導(dǎo)體論壇
一年一度行業(yè)盛會,*八屆***三代半導(dǎo)體論壇(IFWS )&*十九屆中國**半導(dǎo)體照明論壇(SSLCHINA)于2023年2月7日-10日(7日報到)在蘇州金雞湖凱賓斯基大酒店召開。在這場被視為“***三代半導(dǎo)體行業(yè)*”的盛會上,由2014年諾貝爾物理獎獲得者、日本工程院院士、美國工程院院士、中國工程院外籍院士、日本名古屋大學(xué)未來材料與系統(tǒng)研究所教授天野浩,美國工程院院士、美國國家發(fā)明
公司名: 鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司
聯(lián)系人: 戴朝蘭
電 話:
手 機: 13632750017
微 信: 13632750017
地 址: 廣東深圳南山區(qū)留仙大道3370號南山智園崇文園區(qū)3號樓304
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網(wǎng) 址: pcs2021.b2b168.com
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 小型 PC08 化學(xué)氣相沉積小型LPCVD設(shè)備
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 PC07 化學(xué)氣相沉積LPCVD設(shè)備
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 高真空 PC06 等離子體增強化學(xué)氣相沉積PECVD
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 金剛石散熱晶圓片 襯底
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 TGV/TSV /TMV 高真空磁控濺射鍍膜機
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 高真空磁控濺射/離子輔助/多弧復(fù)合鍍膜機
生產(chǎn)型 高真空磁控濺射及離子輔助復(fù)合鍍膜機
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 高真空磁控濺射鍍膜機
公司名: 鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司
聯(lián)系人: 戴朝蘭
手 機: 13632750017
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