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詞條說明
ICP-OES、ICP-MS、AAS傻傻分不清ICP-OES,即電感耦合等離子體(ICP)光譜儀;而ICP-MS,則以ICP方法離子質(zhì)譜分析。有時(shí),人們會(huì)叫它?!癐CP質(zhì)譜分析”。那他們和AAS有什么區(qū)別?如何選擇統(tǒng)計(jì)分析方法?針對(duì)有著ICP-OES有技術(shù)背景的人,ICP-MS它是一種以質(zhì)譜儀器為探測(cè)器的等離子體(ICP),但質(zhì)譜分析學(xué)者認(rèn)為,質(zhì)譜分析學(xué)者認(rèn)為ICP-MS是一個(gè)以ICP質(zhì)譜儀器為源
● 1.熒光X射線微小面積鍍層厚度測(cè)量?jī)x的特征*可測(cè)量電鍍、蒸鍍、離子鍍等各種金屬鍍層的厚度。*可通過CCD攝像機(jī)來觀察及選擇任意的微小面積以進(jìn)行微小面積鍍層厚度的測(cè)量,避免直接接觸或破壞被測(cè)物。*薄膜FP法軟件是標(biāo)準(zhǔn)配置,可同時(shí)對(duì)多層鍍層及全金鍍層厚度和成分進(jìn)行測(cè)量。此外,適用于無鉛焊錫的應(yīng)用。*備有250種以上的鍍層厚度測(cè)量和成分分析時(shí)所需的標(biāo)準(zhǔn)樣品。(SII**)● 2.測(cè)量原理如圖1所示,
手持式是一種光譜分析儀器,因?yàn)槠湫螤钚∏?,具有高的分辨率和信噪比,能夠快速速檢測(cè)分析出產(chǎn)品屬性,在手持光譜儀應(yīng)用顯示器上顯示,是很方便的一種儀器,常常被用于金屬加工,廢舊物資回收,礦石金屬鍛造,電子產(chǎn)品等眾多領(lǐng)域。在來采購手持光譜儀的來電咨詢中了解到,更多的企業(yè)客戶是用來對(duì)材料進(jìn)行檢測(cè),確保采購的材料質(zhì)量合格,后期成品加工沒有因?yàn)樵牧腺|(zhì)量而產(chǎn)生的問題。在與這些來電咨詢的企業(yè)人員交談中,很多材料檢
原理:X射線熒光X射線存在于電磁波譜中的一個(gè)特定區(qū)域,它由原子內(nèi)部電子躍遷產(chǎn)生,其波長(zhǎng)范圍在0.1-100?;能量大于100電子伏特.X射線熒光是一個(gè)原子或分子吸收了特定能量的光子后釋放出較低能量的光子的過程。X ray fluorescence物質(zhì)受原級(jí)X射線或其他光子源照射,受激產(chǎn)生次級(jí)X射線的現(xiàn)象。它只包含特征X射線,沒有連續(xù)X射線。分別以原級(jí)、一級(jí)、二級(jí)X射線激發(fā),可產(chǎn)生一級(jí)、二級(jí)、三級(jí)X
聯(lián)系人: 李經(jīng)理
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