詞條
詞條說(shuō)明
不可否認(rèn)的是,CMOS的微縮已經(jīng)成為推動(dòng)過(guò)去幾十年的巨大進(jìn)步的“燃料”,以提高性能、效率和降低集成電路和系統(tǒng)的成本,從而實(shí)現(xiàn)新的應(yīng)用。摩爾定律的終結(jié)已經(jīng)被預(yù)言了很多次,而材料、設(shè)備概念和圖案的創(chuàng)新已經(jīng)為當(dāng)前的10nm以下技術(shù)掃清了道路。然而,該行業(yè)已經(jīng)到了這樣一個(gè)階段:過(guò)去50年的規(guī)?;鶐?lái)的功耗、性能、面積和成本(PPAC)方面的典型收益已經(jīng)變得越來(lái)越難以實(shí)現(xiàn),尤其是在展望未來(lái)3nm技術(shù)的時(shí)候
對(duì)攝像機(jī)來(lái)說(shuō),3CMOS(3片 CMOS)重要嗎,與單片 CMOS 畫(huà)質(zhì)上區(qū)別有多大?
理論區(qū)別的話,基本上三片式結(jié)構(gòu)( 3CCD 或者 3 CMOS )因?yàn)橐粋€(gè)像素可以同時(shí)感三種顏色的光,對(duì)于光線的利用較為完全,同時(shí)不會(huì)有混色效應(yīng),所以比起拜爾矩陣擁有較好的銳度。三片式結(jié)構(gòu)較早可以追溯到彩色膠片錄影。通過(guò)分光把入射光線打到三個(gè)感不同顏色的膠片上。而到了數(shù)碼時(shí)代只需要把膠片換成光電轉(zhuǎn)換器件(如 CCD、CMOS 等)就行了,實(shí)際上**臺(tái)數(shù)字電影攝影機(jī)就是 3CCD (藍(lán)鯡魚(yú),阿萊和美
CMOS的制作需要經(jīng)過(guò)一系列的復(fù)雜的化學(xué)和物理操作,而做為一名集成電路版圖(ic layout)工程師,系統(tǒng)的了解這個(gè)在半導(dǎo)體制造技術(shù)中具有代表性的CMOS工藝流程是非常有必要的。只有熟悉了工藝流程才會(huì)了解各層次之間的關(guān)系,才會(huì)在IC Layout的繪制中考慮到版圖中各層次對(duì)流片產(chǎn)生的影響。1初始清洗將晶圓放入清洗槽中,利用化學(xué)或物理方法將在晶圓表面的塵?;螂s質(zhì)去除,防止這些雜質(zhì)塵粒對(duì)后續(xù)制造工藝
MEMS與傳統(tǒng)CMOS刻蝕與沉積工藝的關(guān)系
1 MEMS 比 CMOS 的復(fù)雜之處MEMS 與 CMOS的根本區(qū)別在于:MEMS 是帶活動(dòng)部件的三維器件,CMOS 是二維器件。因此,雖然許多刻蝕和沉積工藝相似,但某些工藝是 MEMS *有的,例如失效機(jī)理。舉個(gè)例子,由于 CMOS 器件沒(méi)有活動(dòng)部件,因此不需要釋放工藝。正因?yàn)槿绱耍?dāng)活動(dòng)部件“粘”在表面上,導(dǎo)致設(shè)備故障時(shí),就會(huì)產(chǎn)生靜摩擦,CMOS 沒(méi)有這種問(wèn)題。CMOS 器件是在硅材料上逐層
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