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MEMS與傳統(tǒng)CMOS刻蝕與沉積工藝的關系


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  • SOI CMOS結構和工藝

    常規(guī)的CMOS結構中,電源與地之間存在寄生的PNPN即SCR結構。當SCR被觸發(fā)時,電源到地之間存在低阻通道,引起較大電流,破壞電路工作甚至燒毀電路,這就是閂鎖效應 (Latch-up)。為避免閂鎖效應,早期采用SOS (Silicon On Sapphire) 技術制作CMOS電路,即在藍寶石絕緣襯底上外延硅,之后制作器件,這就有效的避免MOS管的源、漏區(qū)和襯底之間形成PN結。但是,藍寶石價格昂

  • CMOS工藝流程介紹

    CMOS的制作需要經過一系列的復雜的化學和物理操作,而做為一名集成電路版圖(ic layout)工程師,系統(tǒng)的了解這個在半導體制造技術中具有代表性的CMOS工藝流程是非常有必要的。只有熟悉了工藝流程才會了解各層次之間的關系,才會在IC Layout的繪制中考慮到版圖中各層次對流片產生的影響。1初始清洗將晶圓放入清洗槽中,利用化學或物理方法將在晶圓表面的塵?;螂s質去除,防止這些雜質塵粒對后續(xù)制造工藝

  • 主板cmos電路分析哪些方面,CMOS電路ESD保護結構的設計作用是什么?

    CMOS電路是互補型金屬氧化物半導體電路(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor)的英文字頭縮寫,它由絕緣場效應晶體管組成,由于只有一種載流子,因而是一種單較型晶體管集成電路,其基本結構是一個N溝道MOS管和一個P溝道MOS管,如下圖所示。CMOS電路基本結構示意圖cmos電路工作原理cmos電路分析工作原理如下:由于兩管柵較工作電壓極性相反,故將兩管柵較相

  • 對攝像機來說,3CMOS(3片 CMOS)重要嗎,與單片 CMOS 畫質上區(qū)別有多大?

    理論區(qū)別的話,基本上三片式結構( 3CCD 或者 3 CMOS )因為一個像素可以同時感三種顏色的光,對于光線的利用較為完全,同時不會有混色效應,所以比起拜爾矩陣擁有較好的銳度。三片式結構較早可以追溯到彩色膠片錄影。通過分光把入射光線打到三個感不同顏色的膠片上。而到了數碼時代只需要把膠片換成光電轉換器件(如 CCD、CMOS 等)就行了,實際上**臺數字電影攝影機就是 3CCD (藍鯡魚,阿萊和美

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