Pr:YLF晶體，Ho:YLF晶體注意事項

時間：2020-01-09

作者：深圳維爾克斯光電有限公司

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詞條
詞條說明
Alpes量子級聯(lián)激光器基座的類型介紹
封裝對Alpes量子級聯(lián)激光器QCL的系統(tǒng)穩(wěn)定性有著重要意義。如圖所示，為使用Alpes量子級聯(lián)激光器QCL的一般設(shè)置。這套配置可以由用戶自己設(shè)計搭建，也可以由AlpesLasers提供方案。Alpes QCL configurations其中，針對Alpes量子級聯(lián)激光器基座（submount）部分，本文進行簡單介紹。AlpesLasers的激光芯片可以安裝在各種量子級聯(lián)激光器基座/底座上。每個
全站型自準直儀
DUMA全站型自準直儀是在內(nèi)調(diào)焦自準直儀EAC-1012-19-FO的基礎(chǔ)上發(fā)展出來的一系列產(chǎn)品。全站型自準直儀具有更強大的功能，可用于VCSEL、AR、VR等領(lǐng)域的測量，具體型號包括EAC-1012-19-FO/T-RG-IR，EAC-1012-19-FO/T-RGB，EAC-1012-19-FO/T-1060和EAC-1012-19-FO/T-1310。在我們生活中，如AR、VR、激光雷達、自
濾光片的入射角（AOI）和偏振
入射角(Angle of Incidence，簡稱AOI)是指濾光片相對于入射光的傾斜度，其中最簡單的一種情況就是入射光垂直于濾光片，此時入射角為0°。每當非正常入射光線照射到兩種不同介質(zhì)（如空氣和玻璃）之間的界面時，斯涅耳定律（光的折射規(guī)律的定律，即光入射到不同介質(zhì)的界面上會發(fā)生反射和折射）表明，當光線進入第二種介質(zhì)時，入射光線的角度會發(fā)生變化（圖?2）。變化的程度取決于各自的折射率：
藝術(shù)品用Xenics紅外相機應(yīng)用原理
在應(yīng)用于藝術(shù)品檢查和修復(fù)的調(diào)查技術(shù)中，紅外成像分析技術(shù)發(fā)揮著重要的作用，而且在不斷地迅速增長。在這些紅外相機的藝術(shù)品鑒定應(yīng)用中，一般通過適當?shù)膫鞲衅骱途哂懈叻直媛实南鄼C，藝術(shù)修復(fù)保護者可以更有效地對珍貴藝術(shù)品的檢查中，并將其作為文化遺產(chǎn)加以保護。對于藝術(shù)品，我們都知道，除了了解藝術(shù)作品原有的物理和化學成分外，還要了解是什么力量造成了其目前的物質(zhì)狀態(tài)。然而，作品的完整性不得因為采用分析方法而改變或減