研發(fā)技術(shù)

時間：2019-12-18作者：醴陵市利吉升新材料有限公司瀏覽：68

醴陵市利吉升新材料有限公司專注于高**靶材,鉑靶材,銀靶材,鈀靶材,釕靶材,鉻靶材等, 歡迎致電 18681059431

• 詞條

  詞條說明

• 靶材在真空鍍膜中的應(yīng)用

  新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電（glow discharge）將氬氣（Ar）離子撞擊靶材（target）表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成

• 貴金屬靶材是什么？有哪些？

  貴金屬靶材是什么？有什么？選用精練、融化煅造、壓延加工或粉未冶金工業(yè)加工工藝生產(chǎn)的半導(dǎo)體元器件、紀(jì)錄新聞媒體顯示器件等的布線和塑料薄膜的貴金屬以及合金的濺射靶材。Au、Pt、Pd、Ag靶材用以電子器件和規(guī)模性電子器件，CoCrPt、CoPt和CoPd等合金靶材用以磁記錄。輕貴金屬銀、釕、銠、鈀的統(tǒng)稱。相對密度在10~12/cm中間。重貴金屬金、鋨、銥、鉑的統(tǒng)稱，相對密度在19~22g/cm3中間。

• 生產(chǎn)制造

  公司2000平方米加工制造中心，先進(jìn)的加工設(shè)備，優(yōu)化的加工工藝，為客戶快速供貨；公司實行計劃管理，注重過程控制，成品出廠100%檢驗，為客戶制造國際品質(zhì)的產(chǎn)品；公司根據(jù)客戶的需求，承接靶材、非標(biāo)的設(shè)計和制造等服務(wù)。

• 淺談半導(dǎo)體靶材

  靶材，特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過在PVD設(shè)備中用離子對目標(biāo)物進(jìn)行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱