（單管程序氧化爐）

時間：2014-10-22

作者：青島福潤德微電子設備有限公司

詞條
詞條說明
LPCVD設備
LPCVD設備維修及應用低壓化學氣相淀積設備使用與維護技術 LPCVD是大規(guī)模集成電路(LSI)和**大規(guī)模集成電路(VLSI)以及半導體光電器件工藝領域里的主要工藝之一。 PCVD技術可以提高淀積薄膜的質量，使膜層具有均勻性好、缺陷密度低、臺階覆蓋性好等優(yōu)點，成為制備Si 3N4薄膜的主要方法。熱壁LPCVD設備使用過程中出現(xiàn)薄膜的淀積速率、薄膜的均勻性、片內均勻性、片間均勻性不理想等問題，提
太陽能擴散爐
太陽能電池擴散工藝及其設備太陽能電池擴散工藝及其設備 ????技術方案是：一種太陽能電池擴散工藝，在太陽能電池擴散工藝中通控制抽氣排風壓力，使抽氣排風壓力這個參數保持穩(wěn)定，抽氣排風壓力這個參數保持穩(wěn)定，抽氣排風壓力的穩(wěn)定導致辭磷在硅片中的注入濃度穩(wěn)定，使加工后得到的硅片的方塊電池保持穩(wěn)定，在后道的燒結中可以匹配出高效的太陽能電池。抽氣排風壓力通過在機臺排
擴散爐
擴散爐由控制系統(tǒng)、進出舟系統(tǒng)、爐體加熱系統(tǒng)和氣體控制系統(tǒng)等組成。控制系統(tǒng) 控制部分包括：溫控器、功率部件、**溫保護部件、系統(tǒng)控制。系統(tǒng)控制部分有四個獨立的計算機控制單元，分別控制每層爐管的推舟、爐溫及氣路部分，是擴散/氧化系統(tǒng)的控制中心。擴散爐網絡控制輔助控制系統(tǒng)，包括推舟控制裝置、保護電路、電路轉接控制、三相電源指示燈、照明、凈化及抽風開關等。較**的擴散爐控制系統(tǒng)均已較新或升級到微
（單管程序氧化爐）
?單管氧化爐技術方案 ? ????????????? （單管程序氧化爐） ? ?????????????&n