湛江鑭靶材廠

時(shí)間：2025-01-26作者：東莞市鼎偉新材料有限公司瀏覽：198

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  詞條說明

• 硼化鉭靶材

  硼化鉭靶材：高性能材料的新星 硼化鉭靶材是一種在高溫、高壓環(huán)境下表現(xiàn)出色的材料，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、涂層技術(shù)和航空航天等領(lǐng)域。它具有極高的熔點(diǎn)、優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性和良好的導(dǎo)電性，使其成為現(xiàn)代工業(yè)中不可或缺的材料之一。 硼化鉭靶材的制備工藝較為復(fù)雜，通常采用粉末冶金或化學(xué)氣相沉積等方法。粉末冶金法通過高溫?zé)Y(jié)鉭粉和硼粉，使其形成致密的硼化鉭塊體，再經(jīng)過精密加工制成靶材?；瘜W(xué)氣相沉積法則通過氣相反應(yīng)在基

• 硼靶材靶材

  硼靶材：現(xiàn)代科技中的關(guān)鍵材料 在半導(dǎo)體、光伏、顯示面板等行業(yè)中，硼靶材是一種不可或缺的功能性材料。它的主要用途是在物理氣相沉積（PVD）或化學(xué)氣相沉積（CVD）工藝中，通過濺射或蒸發(fā)的方式在基板上形成薄膜，從而賦予材料特定的電學(xué)、光學(xué)或機(jī)械性能。 硼靶材的制備工藝直接影響其性能。高純度硼粉經(jīng)過壓制、燒結(jié)等工序制成靶材，其致密度、晶粒尺寸和雜質(zhì)含量都會(huì)影響濺射薄膜的質(zhì)量。為了提高濺射效率，靶材通常

• 梅州鎳鉻合金靶

  梅州鎳鉻合金靶鎳鉻合金靶是一種重要的濺射靶材，由鎳和鉻按照一定比例合成的合金構(gòu)成。鎳鉻合金靶材因其優(yōu)異的物理和化學(xué)性質(zhì)，在多個(gè)領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。作為一種具有潛力和發(fā)展前景的靶材材料，鎳鉻合金靶正在逐漸受到多行業(yè)的關(guān)注和應(yīng)用。在當(dāng)代科技產(chǎn)業(yè)中，鎳鉻合金靶得到了廣泛的應(yīng)用和認(rèn)可。在混合集成電路的制備過程中，鎳鉻合金靶材的電阻薄膜被廣泛應(yīng)用于制備精密電阻薄膜，滿足了電阻應(yīng)變計(jì)敏感薄膜的性能要求，因此在

• 高純鉻靶的目標(biāo)雜質(zhì)控制

  高純鉻靶的目標(biāo)雜質(zhì)控制：如果靶中的夾雜物數(shù)量過多，則在濺射過程中可能在晶片上形成顆粒，從而導(dǎo)致互連線短路或斷開，這將嚴(yán)重影響膜的性能。高純鉻靶中的大多數(shù)夾雜物是在冶煉和鑄造過程中形成的，主要由氧化物組成，但也包括氮化物，碳化物，氫化物，硫化物，硅化物等，因此應(yīng)在冶煉和鑄造過程中使用。坩堝，內(nèi)部 流道，鑄模等由還原性材料制成，在澆鑄之前，應(yīng)將熔體表面的氧化物和其他爐渣徹底清除。 通常，它們?cè)谡婵栈驘o