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等離子體噴涂設(shè)備等離子表面處理PET塑料噴涂的優(yōu)勢
?PET塑料噴涂前等離子表面處理設(shè)備在數(shù)碼行業(yè)中主要為粘接、涂裝、濺鍍等工藝提供前處理。PET塑料等離子體噴涂設(shè)備處理在數(shù)碼產(chǎn)品中應(yīng)用多的對象是手機外殼、手機按鍵、筆記本電腦外殼、筆記本鍵盤、塑膠產(chǎn)品等。廣泛地應(yīng)用原材料有聚乙烯,聚丙烯,聚,聚酯,聚甲醛,聚四氟乙烯,,尼龍,(硅)橡膠,**玻璃,ABS等塑料的印刷,涂覆和粘接等工藝的表面預(yù)處理。? ? ?
基因芯片又稱作寡核苷酸微陣列,它是通過**固相生成技術(shù)或探針固定化技術(shù),將一系列不同序列的寡核苷酸按陣列分布固定在固相載體上。現(xiàn)階段作為基因微陣列原位生成的載體多以玻璃片和硅單晶,而pp聚丙烯膜、尼龍膜等高分子材料微孔膜,則大多用于點樣法生物芯片的制備,這種膜作為芯片載體熒光背景強,過去必須采用同位素檢測,因而不為人們所青睞。?????  
plasma等離子處理TEOS工藝沉積二氧化硅薄膜的光譜研究
二氧化硅薄膜是一種性能優(yōu)良的介質(zhì)材料,它具有介電性能穩(wěn)定,介質(zhì)損耗小,耐潮性好,溫度系數(shù)好等優(yōu)點,具有較其穩(wěn)定的化學(xué)性和電絕緣性。因此,二氧化硅在集成電路工藝中的應(yīng)用很廣泛。? ? ? ? 正是由于二氧化硅薄膜在集成電路工藝中應(yīng)用的廣泛性,所以需要制備具有不同特性的二氧化硅薄膜,這就意味著要不斷研發(fā)出各種新型的薄膜沉積技術(shù)。近年來,常壓plasma等離子處理
等離子體刻蝕機清洗技術(shù)在塑料及橡膠行業(yè)中的應(yīng)用
等離子體刻蝕機是利用高頻輝光放電反應(yīng),將反應(yīng)氣體為原子或游離基等具有活性的粒子,這些活性粒子擴散到需要腐蝕的位置,然后與被刻蝕的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng),形成揮發(fā)性反應(yīng)物,這種腐蝕方法也稱為干腐蝕。等離子化洗蝕刻技術(shù)是電漿特殊特性的應(yīng)用。等離子體清洗蝕刻技術(shù)的形成設(shè)備,是在密閉器皿內(nèi)用進口真空泵達(dá)到相應(yīng)的真空度,隨著氣體的稀薄,分子間隔及分子與離子之間的自由運動距離變長,在電場的作用下碰撞形成等離子體,這些離
公司名: 深圳子柒科技有限公司
聯(lián)系人: 熊生
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手 機: 13714491283
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地 址: 廣東深圳寶安區(qū)華宏工業(yè)園A棟
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網(wǎng) 址: ziqiplasma.b2b168.com
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