詞條
詞條說(shuō)明
等離子處理器使用哪些常見(jiàn)氣體作為清理介質(zhì)?
等離子處理器也屬于干洗法,與傳統(tǒng)的濕法清洗器相比,電漿處理器具備工藝簡(jiǎn)單、操作簡(jiǎn)單、可控性高、精度高等特點(diǎn),能一次清理表層不會(huì)有殘留物,反觀濕法清理一次清理不干凈還會(huì)有殘留物,如果使用大量的溶劑,對(duì)環(huán)境和人體都會(huì)有害。電漿清洗器在使用流程中,有兩種清理流程:化學(xué)變化和物理反應(yīng)。電漿清理性能好,清理快,去除氧化物,**物和物體表層活化效果好,而且在使用流程中不會(huì)產(chǎn)生對(duì)人體和環(huán)境有害的氣體,是一種真正
電漿清洗機(jī)比超聲波清洗機(jī)在處理微觀材料表層顯得更環(huán)保
電漿清洗機(jī)是1種嶄新的科技創(chuàng)新,使用等離子體高過(guò)日常潔凈方式難以高過(guò)的功效。等離子體是物質(zhì)的狀態(tài),也稱(chēng)為物質(zhì)的*四狀態(tài)。在氣體中施加足夠的能量使其分離成等離子。等離子體的“活性”組分包含:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。電漿清洗機(jī)使用這種活性成份的類(lèi)型處理試樣表層,高過(guò)清潔等作用。常壓電漿清洗機(jī)可選用多種型號(hào)的噴嘴,用于不同場(chǎng)合,以滿(mǎn)足各種不同的產(chǎn)品和處理環(huán)境;小型化的設(shè)備體
等離子體CMOS工藝中應(yīng)用于集成電路制造中WAT方法研究
WAT(Wafer Accept Test)即硅圓片接收測(cè)試,就是在半導(dǎo)體硅片完成所有的制程工藝后,對(duì)硅圓片上的各種測(cè)試結(jié)構(gòu)進(jìn)行電性測(cè)試,它是反映產(chǎn)品質(zhì)量的一種手段,是產(chǎn)品入庫(kù)前進(jìn)行的一道質(zhì)量檢驗(yàn)。? ? ? ??伴隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,等離子體工藝已廣泛應(yīng)用于集成電路制造中,離子注入、干法刻蝕、干法去膠、UV輻射、薄膜淀積等都可能會(huì)引入等離子體損
基因芯片又稱(chēng)作寡核苷酸微陣列,它是通過(guò)**固相生成技術(shù)或探針固定化技術(shù),將一系列不同序列的寡核苷酸按陣列分布固定在固相載體上?,F(xiàn)階段作為基因微陣列原位生成的載體多以玻璃片和硅單晶,而pp聚丙烯膜、尼龍膜等高分子材料微孔膜,則大多用于點(diǎn)樣法生物芯片的制備,這種膜作為芯片載體熒光背景強(qiáng),過(guò)去必須采用同位素檢測(cè),因而不為人們所青睞。?????  
公司名: 深圳子柒科技有限公司
聯(lián)系人: 熊生
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手 機(jī): 13714491283
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地 址: 廣東深圳寶安區(qū)華宏工業(yè)園A棟
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網(wǎng) 址: ziqiplasma.b2b168.com
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