快速退火爐系統(tǒng)設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)

時(shí)間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：80

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專(zhuān)注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

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  磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡(jiǎn)介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點(diǎn)。傳統(tǒng)的濺射技術(shù)的工作原理是：在高真空的條件下，入射離子（Ar+）在電場(chǎng)的作用下轟擊靶材，使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動(dòng)能脫離靶材表面，沉積在基片表面形成薄膜。但是，電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用，產(chǎn)生漂移，因而導(dǎo)致傳濺射效率低，電

• 恭喜鄭科探突破焦耳熱閃蒸新技術(shù)

  焦耳熱閃蒸技術(shù)，用于將含碳的廢料轉(zhuǎn)化為石墨烯材料。原理是利用**高溫環(huán)境將高碳含量材料變?yōu)槭?。先將這些廢料被磨成粉末，然后用高壓加熱到2000℃（3680°F到4940°F）之間。為了獲得高質(zhì)量的渦輪狀閃蒸石墨烯，閃蒸時(shí)間應(yīng)保持在30～100 ms之間。這種技術(shù)是一種較便宜制造石墨烯的方法，需要的能量也少得多，并可以將生活中廢棄的塑料碎片回收利用。在這項(xiàng)新的研究中，萊斯大學(xué)的科學(xué)家們已經(jīng)通過(guò)焦耳閃