燃料電池儲氫系統(tǒng)氦質(zhì)譜檢漏法

時間：2023-04-12

作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司

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分子泵組應用于低溫真空探針臺
Pfeiffer?分子泵組應用于低溫真空探針臺真空探針臺一般用于復雜, 高速精密器件進行表面觀測以及各種性能測試的儀器, 通過測試可以產(chǎn)品的質(zhì)量和性并縮減研發(fā)時間和器件制造工藝的成本. 探針臺主要應用于半導體行業(yè), 光電行業(yè), 集成電路以及封裝的測試為什么需要真空環(huán)境?1. 真空探針臺通過搭配分子泵組, 配合真空吸附卡盤及真空吸附探針座的使用, 通過空氣壓縮, 固定樣品及探針座.2. 由
美國 HVA 高真空閥門簡介
美國?HVA 真空閥門中國總代理上海伯東是美國?HVA 高真空和高真空閥門中國總代理!?HVA?是美國大的真空閥門制造商, 在美國有過四十年的歷史, 擁有6萬平方英尺的全自動加工工廠,?HVA?提供高質(zhì)量, 準確, 客制化的真空閥門. 無論是生產(chǎn)線升級, 還是新設備制造,?HVA?都能提供經(jīng)濟有效的閥門解決方案,
HVA 真空插板閥（真空閥門）用于激光真空系統(tǒng)
因產(chǎn)品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。美國HVA帶孔真空插板閥（真空閥門）真空閘閥廣泛用于激光真空系統(tǒng)伯東公司代理美國HVA帶孔真空插板閥(Gate Valve)真空閥門廣泛用于激光真空系統(tǒng)HVA Gate Valve在激光真空系統(tǒng)上的應用伯東企業(yè)（上海）有限公司, 為美國HVA 真空閥門在中國境內(nèi)的代理商, 并負責HVA Valve 真空閥門在中國地區(qū)的銷售
美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機應用
上海伯東某客戶在熱蒸發(fā)鍍膜機中配置美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進行鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過同時的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3