KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜

時間：2024-01-12

作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司

詞條
詞條說明
HVA 真空閥門（真空閘閥）成功用于激光真空系統(tǒng)
激光是一種很奇妙的?”物質(zhì)”,?是人類繼原子能、計算機和半導體之后人類的又一偉大發(fā)現(xiàn).人們都知道,?激光亮度高,?可以達到太陽亮度的10億倍甚.激光純凈無比,?單色性好;?激光具有無比的準直性（直線傳播）;?而且,?激光的能量強大,?瞬間爆發(fā)的能量,?即使堅硬的物體也能夠被穿透、熔化.?因
HVA 真空閥門應用于E-Beam鍍膜機
某?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統(tǒng)停機時不破壞系統(tǒng)真空,?只要對泵內(nèi)部進行破真空即可.HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術規(guī)格:??閥門材質(zhì):&nb
HVA 矩形閥 Load-lock 典型應用
因產(chǎn)品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA 矩形閥?Load-lock 典型應用上海伯東某生產(chǎn)原生多晶矽料生產(chǎn)設備, 矽片加工設備, 晶體矽電池生產(chǎn)設備企業(yè), 使用美國?HVA 矩形閥用于真空機臺的 Load-lock工位, HVA 矩形閥安裝在 2X18 英寸規(guī)格內(nèi)的矽片生產(chǎn)線上, 起到輔助傳遞矽片, 隔離真空腔室的作用.矽片比較薄, 一般
氦質(zhì)譜檢漏儀 MPCVD 檢漏, 實現(xiàn)金剛石膜制備
氦質(zhì)譜檢漏儀 MPCVD 檢漏, 實現(xiàn)金剛石膜制備微波等離子體化學氣相沉積法 Microwave Plasma CVD (MPCVD) 是目前**上被用于金剛石膜制備的公認方法. MPCVD 裝置將微波發(fā)生器產(chǎn)生的微波經(jīng)波導傳輸系統(tǒng)進入反應器, 并通入甲烷與氫氣的混合氣體, 在微波的激發(fā)下, 在反應室內(nèi)產(chǎn)生輝光放電, 使反應氣體的分子離化, 產(chǎn)生等離子體, 在基板臺上沉積得到金剛石膜. 上海伯東某