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KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用


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  • HVA 真空閥門用在氣體管路系統(tǒng)

    某半導(dǎo)體工廠在生產(chǎn)線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?,作為真空隔離密封.?HVA?是真空技術(shù)創(chuàng)新者的真空閥門(插板閥),?是高真空閥門的主要制造商和供應(yīng)商.?在設(shè)計(jì)真空系統(tǒng)時(shí),?可以輕松集成?HVA?閥門. HVA?閘閥從5/8英寸(16

  • 氦質(zhì)譜檢漏儀 MPCVD 檢漏, 實(shí)現(xiàn)金剛石膜制備

    氦質(zhì)譜檢漏儀 MPCVD 檢漏, 實(shí)現(xiàn)金剛石膜制備微波等離子體化學(xué)氣相沉積法 Microwave Plasma CVD (MPCVD) 是目前**上被用于金剛石膜制備的公認(rèn)方法. MPCVD 裝置將微波發(fā)生器產(chǎn)生的微波經(jīng)波導(dǎo)傳輸系統(tǒng)進(jìn)入反應(yīng)器, 并通入甲烷與氫氣的混合氣體, 在微波的激發(fā)下, 在反應(yīng)室內(nèi)產(chǎn)生輝光放電, 使反應(yīng)氣體的分子離化, 產(chǎn)生等離子體, 在基板臺(tái)上沉積得到金剛石膜. 上海伯東某

  • 燃料電池儲(chǔ)氫系統(tǒng)氦質(zhì)譜檢漏法

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  • 分子泵組玻璃封管抽真空進(jìn)行金屬燒結(jié)試驗(yàn)

    Pfeiffer?分子泵組玻璃封管抽真空進(jìn)行金屬燒結(jié)試驗(yàn)上海伯東德國 Pfeiffer 經(jīng)濟(jì)型分子泵組?Hicube 80 Eco 成功應(yīng)用于玻璃封管抽真空, 進(jìn)行金屬燒結(jié)試驗(yàn), 主要應(yīng)用如下:系統(tǒng)真空度要求: 10-4 mbar1. 玻璃管內(nèi)放置金屬材料2. 利用分子泵組提供穩(wěn)定的真空, 封住玻璃管, 抽走多余的空氣和水汽, 減少水, 氧, 氮等氣體對(duì)燒結(jié)的不良影響, 然后對(duì)

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