KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用

時間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：68

伯東企業(yè)（上海）有限公司專注于pfeiffer,氦質(zhì)譜檢漏儀,inTEST等

• 詞條

  詞條說明

• HVA 真空閥門用在氣體管路系統(tǒng)

  某半導(dǎo)體工廠在生產(chǎn)線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?，作為真空隔離密封.?HVA?是真空技術(shù)創(chuàng)新者的真空閥門(插板閥),?是高真空閥門的主要制造商和供應(yīng)商.?在設(shè)計真空系統(tǒng)時,?可以輕松集成?HVA?閥門. HVA?閘閥從5/8英寸（16

• KRI 離子源用于UVC人機共存紫外濾光片鍍膜

  ? ?? ?紫外濾光片是一種光學(xué)元件, 通過使用分散在玻璃材料表面的光學(xué)薄膜控制入射光通過膜層后不同波長光的透反比. 222nm是紫外不可避免的一個波段, 因為其生物體透過率低, 被譽為對人體的紫外線.222nm遠(yuǎn)紫外產(chǎn)品一定程度上解決了傳統(tǒng)紫外線不能直接照射人體的痛點問題, 兼顧了功能性和性, 實現(xiàn)了人機友好共存, 有效減少和滅殺身體表面多達(dá)99.9%的細(xì)

• HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 OLED 鍍膜機

  因產(chǎn)品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準(zhǔn)。HVA?高真空閘閥應(yīng)用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導(dǎo)體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩(wěn)定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應(yīng)用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達(dá)到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵

• 美國 HVA 真空閥門選型

  上海伯東美國?HVA 真空閥門選型實例產(chǎn)品系列特點口徑HVA 真空閘閥 11000 系列介面, 控制方式全包括DN 16 到 DN 600HVA 真空層流閘閥 13000系列防腐蝕DN 40 到 DN 300HVA 真空層流閘閥 16000系列防顆粒污染DN 40 到 DN 350HVA 矩形閥 21200 系列長使用壽命DN 16 到 DN 300HVA 3位真空閘閥 21700系列有