美國(guó) KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：65

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  詞條說(shuō)明

• KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

  上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機(jī), 刻蝕均勻性（1 σ）達(dá)到< 1%. 可以用來(lái)刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導(dǎo)體, 絕緣體, 導(dǎo)體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機(jī)的部件,

• KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用

  上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個(gè)離子源主要濺射沉積源和二次預(yù)清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性

• KRI 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜

  ?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片是在各類玻璃材質(zhì)表面通過(guò)特殊的鍍膜工藝而形成的光學(xué)元件, 可以從入射光中選取任意所需求的波長(zhǎng), 半峰值一般在 5nm~50nm之間, 具有波長(zhǎng)定位準(zhǔn)確、透過(guò)高、截止深、溫漂小、性好、光潔度好的特點(diǎn), 是激光設(shè)備應(yīng)用中常見的濾光片解決方案.?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片使用在

• 美國(guó) HVA 真空閥門中國(guó)總代理

  上海伯東是美國(guó)?HVA 高真空和高真空閥門中國(guó)總代理!?HVA?是美國(guó)大的真空閥門制造商, 在美國(guó)有過(guò)四十年的歷史, 擁有6萬(wàn)平方英尺的全自動(dòng)加工工廠,?HVA?提供高質(zhì)量, 準(zhǔn)確, 客制化的真空閥門. 無(wú)論是生產(chǎn)線升級(jí), 還是新設(shè)備制造,?HVA?都能提供經(jīng)濟(jì)有效的閥門解決方案, 其中高真空閘閥現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體氣體管路和各