美國 HVA 真空閥門選型

時間：2024-01-11

作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司

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上海伯東KRI離子源在半導體材料中的預清洗及刻蝕應用
半導體材料（semiconductor material）是一類具有半導體性能（導電能力介于導體與絕緣體之間，電阻率約在1mΩ·cm～1GΩ·cm范圍內(nèi)）、可用來制作半導體器件和集成電路的電子材料。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導纖維、電子工業(yè)的重要部件、光學儀器、工藝品和耐火材料的原料，是科學研究的重要材料。?本文主要介紹上海伯東KRI離子源在半導體材料SiO2中的預清洗及刻
殘余氣體分析儀應用于高溫真空爐, 實現(xiàn)質(zhì)量保證和過程優(yōu)化
殘余氣體分析儀應用于高溫真空爐, 實現(xiàn)質(zhì)量保證和過程優(yōu)化上海伯東某客戶生產(chǎn)研發(fā) X 射線管及組件, 使用德國 Pfeiffer?Hicube RGA 殘余氣體分析儀與高溫真空爐連接, 測試產(chǎn)品在不同溫度下?lián)]發(fā)的產(chǎn)物變化, 進一步分析產(chǎn)品的耐用性以及使用形態(tài). 實現(xiàn)真空過程相關的質(zhì)量控制, 滿足 X 射線管工藝要求.殘余氣體分析儀質(zhì)量保證和過程優(yōu)化諸如提供氣體成分定量測定, 確定過程氣體純
HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機
國內(nèi)某?OLED?鍍膜機廠家配置伯東美國?HVA?真空閥門?11000?系列，尺寸以?4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標準不銹鋼氣動高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術規(guī)格:??下圖是某?OLED?鍍膜機廠家配置上海伯東美
上海伯東KRI 離子源在鍺基紅外鍍膜中的應用
? ? 紅外光學薄膜器件作為紅外系統(tǒng)重要組成部分,?已廣泛應用于航空航天、、環(huán)保、分析儀器等各個領域.?在紅外光學應用中,?由于鍺在2～14μm紅外波段內(nèi)有高而均勻的透過率,?是一種的優(yōu)良紅外光學材料.?鍺單晶切片加工成的鍺透鏡及鍺窗和利用鍺單晶透過紅外波長特性制成的各種紅外光學部件廣泛用于各類紅外光學系統(tǒng).?&nbs