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上海伯東KRI 離子源在鍺基紅外鍍膜中的應(yīng)用


    伯東企業(yè)(上海)有限公司專注于pfeiffer,氦質(zhì)譜檢漏儀,inTEST等

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  • KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用

    上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個(gè)離子源主要濺射沉積源和二次預(yù)清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性

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