KRI 離子源用于離子束拋光機(jī)

時(shí)間：2024-01-10作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：72

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  詞條說明

• HVA 真空閥門應(yīng)用于E-Beam 鍍膜機(jī)

  某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機(jī)系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時(shí)外系統(tǒng)停機(jī)時(shí)不破壞系統(tǒng)真空,?只要對(duì)泵內(nèi)部進(jìn)行破真空即可.E-Beam?鍍膜機(jī)設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室,?電子,?進(jìn)樣室 

• HVA 真空閥門應(yīng)用于亞洲*大的粒子系統(tǒng)

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。美國 HVA 真空閥門應(yīng)用于亞洲大的粒子系統(tǒng)上海伯東代理的美國 HVA 真空閥門應(yīng)用于中國研制的亞洲大的粒子系統(tǒng) ( 100MV ),當(dāng)前世界上大的粒子系統(tǒng)為美國費(fèi)密國立實(shí)驗(yàn)室的一臺(tái)質(zhì)子同步 ( 200MV )上海伯東是美國 HVA 真空閥門在中國境內(nèi)的代理商, 負(fù)責(zé)HVA valve 真空閥門在中國地區(qū)的銷售和相關(guān)

• 美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機(jī)應(yīng)用

  上海伯東某客戶在熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)中配置美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進(jìn)行鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3

• HVA 真空插板閥（真空閥門）用于激光真空系統(tǒng)

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。美國HVA帶孔真空插板閥（真空閥門）真空閘閥廣泛用于激光真空系統(tǒng)伯東公司代理美國HVA帶孔真空插板閥(Gate Valve)真空閥門廣泛用于激光真空系統(tǒng)HVA Gate Valve在激光真空系統(tǒng)上的應(yīng)用伯東企業(yè)（上海）有限公司, 為美國HVA 真空閥門在中國境內(nèi)的代理商, 并負(fù)責(zé)HVA Valve 真空閥門在中國地區(qū)的銷售