磁控濺射鍍膜設備的優(yōu)點和缺點有哪些？

時間：2021-11-09作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：784

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  詞條說明

• 立式濺射鍍膜設備的優(yōu)勢及應用行業(yè)

  立式濺射鍍膜設備的特點： 1、在真空條件下制備鍍膜環(huán)境清潔，膜層不易受污染，可獲得致密性好，純度高，膜層厚度均勻，易于控制的涂層。 2、膜材的基體材料有廣泛的選擇性，可制備各種不同的功能性涂層。 3、膜的附著強度高，膜層十分牢固，不易脫落。 4、在工藝過程中不產生廢液，減少環(huán)境污染，減少對人體有害的金屬物體，較大程度上實現(xiàn)綠色環(huán)保生產。其中之一的汽車行業(yè) 該設備的設計為立式雙門的結構，是一款直流磁

• 何時對零件執(zhí)行真空浸漬

  是否應該在完成之前或之后進行真空浸漬？粉末涂料，油漆，鉻酸鹽轉化和陽極氧化是壓鑄零件的常用表面處理，可改善其性能或外觀。在某些壓鑄應用中，組件還必須密封以容納加壓的流體或氣體。公司使用真空浸漬法通過密封內部泄漏通道而不會影響鑄件的任何其他特征來滿足這些要求。一般規(guī)則是，在任何表面拋光之前都應進行真空浸漬。這將密封孔隙并消除可能因除氣，化學相容性或預處理滲出而導致的任何失效模式。以下是在涂飾后進行浸

• PVD涂層對工件表面的要求

  工件或工具表面的條件對涂層的性能有決定性影響。要想有質量良好的涂層，工件需經研磨或拋光，并針對運輸進行防腐處理。一、研磨的表面不能出現(xiàn)淺裂紋、氧化皮或再硬化燒傷。 二、研磨期間使用的冷卻液不能包含任何磺酸鈣、硼或碘化合物、或含硅的消泡劑。 三、研磨過的表面、用磨刀石磨過的表面、拋光的表面或用磨盤磨過的表面必須沒有研磨劑和殘余物。 四、刀刃必須無毛刺，以便它們不會在**次使用時斷裂。 五、在EDM（

• 多弧離子真空鍍膜技術特點

  離子鍍的原理：離子鍍是在真空室中，利用氣體放電或被蒸發(fā)物質部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發(fā)物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術和真空蒸發(fā)三者**結合起來， 不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用范圍。其優(yōu)點是薄膜 附著力 強，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍工藝的**特點是我們可以通過產生由高度電離的蒸發(fā)物質文化組成的等離子體，其中離子之間