磁控濺射沉積系統(tǒng)設(shè)計(jì)

時(shí)間：2023-04-13作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：101

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專(zhuān)注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• PVD真空鍍膜技術(shù)知識(shí)問(wèn)答

  Q1: 什么是PVD? 真空電鍍加工真空鍍膜技術(shù)A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫(xiě)，中文意思是“物相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。?? ? 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司新研發(fā)一款小型蒸鍍儀KT-Z1650DM是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,

• 小型濺射儀問(wèn)題解答

  小型濺射儀儀問(wèn)儀答較近小伙伴對(duì)于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問(wèn)的問(wèn)題比較多，今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見(jiàn)的技術(shù)問(wèn)題：1、膜厚檢測(cè)儀原理：膜厚監(jiān)測(cè)儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測(cè)量技術(shù)加上**的數(shù)學(xué)算法，進(jìn)行膜厚的在線(xiàn)鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過(guò)程中，對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳 ?但是 鎳是導(dǎo)磁

• 真空探針臺(tái)優(yōu)勢(shì)和適用于那些科研

  KT-Z1604T探針臺(tái)主要應(yīng)用于傳感器，半導(dǎo)體，光電，集成電路以及封裝的測(cè)試。 廣泛應(yīng)用于復(fù)雜、高速器件的精密電氣測(cè)量的研發(fā)，旨在確保質(zhì)量及可靠性，并縮減研發(fā)時(shí)間和器件制造工藝的成本。??? 該探針臺(tái)的承載臺(tái)為60x60不銹鋼臺(tái)面，臺(tái)面較高可升溫到較高350℃。真空腔體設(shè)計(jì)有進(jìn)氣口和抽真空接口。探針臂為X/Y/Z三軸移動(dòng)，三個(gè)方向均可在真空環(huán)境下精密移位調(diào)節(jié)，其中X

• 氣體質(zhì)量流量控制器的自我診斷技術(shù)

  1. 自我診斷技術(shù)自我診斷技術(shù)是在不停機(jī)或基本不拆機(jī)的情況下，通過(guò)各種檢測(cè)分析來(lái)判斷設(shè)備狀態(tài)是否正常，異常或故障的原因、部位、程度以及壽命的預(yù)測(cè)。自我診斷技術(shù)的主要作用是獲得設(shè)備的結(jié)果狀態(tài)信息，即根據(jù)設(shè)備在各種工況下，表現(xiàn)出來(lái)的精度**差，零點(diǎn)漂移，內(nèi)漏等所有狀態(tài)信息的綜合分析來(lái)識(shí)別產(chǎn)品的狀態(tài)、異常類(lèi)型和異常的嚴(yán)重程度，其本質(zhì)是一個(gè)包含信號(hào)、信息提取、信息綜合、故障識(shí)別和信息利用的過(guò)程。自我診斷的目