3.0T ———-高場強核磁;1.0T-3.0T —–中場強核磁;0.1T-1.0T —–低場強核磁;<0.1T ———**低場強核磁;低場核磁共振主要是指磁場強度比較低的核磁共振儀器。低場核磁共振技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛,而且還處在不斷拓展之中,低場核磁共振技術(shù)主要基于四個方面進行樣品分析與檢測:(1)基于信號幅" />

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低場核磁共振技術(shù)與應(yīng)用概述


    蘇州紐邁分析儀器股份有限公司專注于低場核磁共振儀器,臺式核磁共振儀器,核磁共振成像儀等

  • 詞條

    詞條說明

  • 便攜式核磁共振

    一、什么是便攜式核磁共振儀???便攜式核磁共振(NMR)是一種小型化和便攜化的核磁共振技術(shù),可以在進行現(xiàn)場或移動應(yīng)用。它是將傳統(tǒng)的大型NMR儀器進行尺寸縮小和優(yōu)化,以便在更多場景下使用的創(chuàng)新技術(shù)。它的**部分是一個低場強磁鐵,通常在0.1T-1.5T之間。?二、便攜式核磁共振儀有哪些特點??1.?尺寸和重量:便攜式核磁共振儀器相對較小、輕便,便于攜

  • 2024年國家自然科學(xué)基金【工程與材料學(xué)部】方向|紐邁低場核磁應(yīng)用解決方案

    1月11日,《2024年度國家自然科學(xué)基金項目指南》正式發(fā)布。據(jù)統(tǒng)計,2023年工程與材料科學(xué)部共接收重點項目申請814項,資助103項,資助直接費用23690萬元,直接費用平均資助強度為230萬元/項。2024年,工程與材料科學(xué)部擬在以下14個領(lǐng)域中資助重點項目110項左右,直接費用平均資助強度約為300萬元/項,資助期限為5年。為較好地服務(wù)廣大紐邁用戶,本文特對工程與材料學(xué)部2024年度重點項

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    低場核磁共振技術(shù)研究國產(chǎn)cmp研磨液什么是cmp研磨液?CMP 全稱為 Chemical Mechanical Polishing,即化學(xué)機械拋光。該技術(shù)是半導(dǎo)體晶圓制造的比備流程之一,對高精度、高性能晶圓制造至關(guān)重要。拋光液的主要成分包括研磨顆粒、PH值調(diào)節(jié)劑、氧化劑、分散劑等。從成分中我們就大概知道了拋光液是一種對分散要求很高的納米材料懸浮液,所以研磨過程中對顆粒的尺寸變化以及顆粒在懸浮液中的

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