CTLD-1000熱釋光劑量片殘余劑量的評(píng)估

時(shí)間：2019-04-27作者：北京旭輝騰業(yè)科技有限公司瀏覽：38

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

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  CTLD-1000熱釋光探測(cè)器發(fā)光曲線的探討 1制備工藝 圖1給出了CTLD系列熱釋光探測(cè)器的制備工藝流程圖。 本工藝解決以下難點(diǎn): LiF:Mg,Cu,P熱釋光材料經(jīng)過(guò)熱壓、切片后，其熱釋光特性消失，采取退火工藝，恢復(fù)了探測(cè)器的熱釋光特性；對(duì)熱釋光探測(cè)器進(jìn)行預(yù)處理，提高了LiF:Mg,Cu,P熱釋光材料的穩(wěn)定性；對(duì) LiF:Mg,Ti探測(cè)器制備工藝的進(jìn)行了改進(jìn)；解決了CaSO4探測(cè)器不易成型及