珠海鈦鋁靶

時間：2024-08-11

作者：東莞市鼎偉新材料有限公司

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詞條說明
鈦酸鑭靶材
鈦酸鑭靶材：高性能濺射鍍膜的關鍵材料鈦酸鑭靶材作為一種新型功能陶瓷材料，在薄膜制備領域展現(xiàn)出獨特優(yōu)勢。這種靶材主要由氧化鈦和氧化鑭按特定比例混合燒結而成，其晶體結構穩(wěn)定，化學性質(zhì)優(yōu)良，成為濺射鍍膜工藝中的重要材料選擇。鈦酸鑭靶材最顯著的特點是具有較高的介電常數(shù)和較低的介電損耗。這一特性使其在制備高k介質(zhì)薄膜時表現(xiàn)突出，能夠有效提升集成電路的性能。同時，該材料還表現(xiàn)出良好的熱穩(wěn)定性和化學穩(wěn)定性，在
氧化鋯靶材
氧化鋯靶材：高性能材料的核心秘密氧化鋯靶材是薄膜沉積技術中的關鍵材料，廣泛應用于半導體、光學鍍膜、太陽能電池等領域。它的高熔點、優(yōu)異的化學穩(wěn)定性以及良好的機械強度，使其成為高端鍍膜工藝的首選。高熔點與穩(wěn)定性氧化鋯的熔點高達2700℃，遠高于普通金屬氧化物，這使得它在高溫環(huán)境下仍能保持穩(wěn)定。在濺射鍍膜過程中，靶材需要承受高能粒子的轟擊，而氧化鋯的耐高溫特性確保了鍍膜過程的穩(wěn)定性和均勻性。此外，
惠州稀土靶材報價
惠州稀土靶材報價稀土靶材作為一種重要的濺射靶材，在電子元件、光學薄膜、太陽能電池等領域有著廣泛的應用。它能夠通過電子或高能激光轟擊靶材的方式，在基片表面形成薄膜，起要的功能和作用。稀土靶材的制備方法多種多樣，包括物理方法和化學方法，每種方法均有其*特的優(yōu)勢和適用場景。在稀土靶材的種類中，高純稀土金屬靶材和稀土合金靶材是兩類重要的產(chǎn)品。高純稀土金屬鐿靶材是處于**水平的稀土靶材產(chǎn)品，主要應用于新型發(fā)
氧化銅靶材
氧化銅靶材：半導體制造中的關鍵材料氧化銅靶材是一種廣泛應用于半導體、光伏和顯示行業(yè)的高純度材料，主要用于物理氣相沉積（PVD）工藝。它的核心作用是在基板上形成均勻的薄膜，直接影響器件的導電性能和穩(wěn)定性。高純度與均勻性氧化銅靶材的純度通常要求達到99.99%以上，以確保沉積薄膜的電學性能穩(wěn)定。任何微量雜質(zhì)都可能影響薄膜的電阻率和均勻性，因此生產(chǎn)工藝需嚴格控制。在濺射過程中，靶材的密度和微觀結