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詞條說明
? ? ?貴金屬靶材就是采用精練、粉末冶金、壓延加工或熔化鍛造制造而成的貴金屬靶材材料。是主要應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、存儲用的硬盤、平面顯示器等的布線和制備薄膜用的貴金屬濺射靶材材料。廣泛應(yīng)用于集成電路和大規(guī)模集成電路。還有一些合金靶材用于磁記錄。? ? ?在貴金屬靶材中其貴金屬的純度都在99.99%以上主要應(yīng)用在半導(dǎo)體行業(yè)與大規(guī)模的集成電路中
陽江鉻鋁靶廠家:致力于高品質(zhì)鉻鋁靶材制造陽江鉻鋁靶廠家是一家專注于高品質(zhì)鉻鋁靶材的制造商,為廣大客戶提供優(yōu)質(zhì)的濺射靶材產(chǎn)品。我們擁有多名中**專業(yè)技術(shù)人員和專業(yè)化應(yīng)用實驗室,具備強大的蒸發(fā)材料開發(fā)能力,致力于為客戶提供、質(zhì)量可靠的鉻鋁靶材產(chǎn)品。鉻鋁靶材是一種重要的濺射靶材,在質(zhì)量控制和儀器校準(zhǔn)方面發(fā)揮著重要作用。主要應(yīng)用于X射線熒光光譜分析、電子能譜分析等表面分析技術(shù),是許多電子、太陽能企業(yè)不可或
對濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,最終形成薄膜。濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。以pld為例,因素主要有:靶材與基
云浮鉻靶材批發(fā)隨著科技的飛速發(fā)展,金屬材料作為現(xiàn)代工業(yè)的基礎(chǔ)材料之一,扮演著至關(guān)重要的角色。在金屬材料中,鉻靶材作為一種應(yīng)用廣泛、性能優(yōu)異的材料,被廣泛用于半導(dǎo)體制造、光學(xué)鍍膜、磁盤制造等領(lǐng)域。作為一家生產(chǎn)高屬材料的公司,我們將針對鉻靶材的特點和應(yīng)用領(lǐng)域展開介紹。鉻靶材是以鉻元素為主要成分的材料,具有高硬度、高熔點和抗氧化性能。這使得鉻靶材在各種科研和工業(yè)領(lǐng)域表現(xiàn)出色。作為蒸發(fā)鍍膜材料和濺射靶材的
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
聯(lián)系人: 肖先生
電 話: 0769-88039551
手 機: 18681059472
微 信: 18681059472
地 址: 廣東東莞東莞市南城區(qū)民間金融大廈
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