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詞條說明
派瑞林Parylene涂層采用*特的真空氣相沉積工藝制備,其制備過程如下:首先,在真空條件下固態(tài)派瑞林原料在130℃升華氣化,然后在680℃高溫下,將氣態(tài)雙份子裂解成活性單體;最后在真空常溫下,氣態(tài)單體在基體上生長聚合,在基材表面“生長”出完全敷形的派瑞林聚合物薄膜涂層,該涂層具有其他涂層難以比擬的性能優(yōu)勢(shì)。它能涂敷到各種形狀的表面,包括尖銳的棱邊,裂縫里和內(nèi)表面。派瑞林Parylene涂層不僅電
HDI是High Density Interconnector的英文簡寫, 高密度互連(HDI)制造是印制電路板行業(yè)中發(fā)展快的一個(gè)領(lǐng)域。從1985年惠普推出的**臺(tái)32位計(jì)算機(jī),到如今采用36個(gè)順序?qū)訅憾鄬佑≈瓢搴投询B式微型過孔的大客戶服務(wù)器,HDI/微型過孔技術(shù)無疑是未來的PCB架構(gòu)。器件間距較小、I/O管腳和嵌入式無源器件更多的大型ASIC和FPGA具有越來越短的上升時(shí)間和較高頻率,它們都要求
**低溫冷阱與常規(guī)冷阱性能對(duì)比**低溫冷阱與常規(guī)冷阱都是用于樣品冷卻的設(shè)備,但它們?cè)谛阅芎蛻?yīng)用上存在一些顯著的區(qū)別。下面是對(duì)這兩種冷阱的性能進(jìn)行簡要對(duì)比的概述。一、溫度控制**低溫冷阱的優(yōu)勢(shì)在于其較低的溫度控制。它通常能在接近**零度的溫度下對(duì)樣品進(jìn)行冷卻,這對(duì)于許多需要較端低溫環(huán)境的實(shí)驗(yàn)來說是非常關(guān)鍵的。而常規(guī)冷阱雖然也能提供一定的冷卻效果,但在溫度控制上可能不如**低溫冷阱精確。二、冷卻能力**低溫冷阱
**低溫冷阱的節(jié)能降耗技術(shù)研究一、概述**低溫冷阱在許多科研和應(yīng)用領(lǐng)域中發(fā)揮著關(guān)鍵作用,如生物樣本存儲(chǔ)、**信息、物理研究等。然而,其運(yùn)行過程中能源消耗問題一直是限制其廣泛應(yīng)用的重要因素。因此,對(duì)**低溫冷阱的節(jié)能降耗技術(shù)進(jìn)行研究具有重要意義。二、技術(shù)要點(diǎn)1. 優(yōu)化制冷系統(tǒng):制冷系統(tǒng)是**低溫冷阱的**部分,其效率直接影響冷阱的溫度控制。優(yōu)化制冷系統(tǒng)包括選擇高效能的制冷劑、改進(jìn)壓縮機(jī)設(shè)計(jì)、優(yōu)化熱交換器等。
公司名: 派珂納米科技(蘇州)有限公司
聯(lián)系人: 王妍
電 話: 15250068460
手 機(jī): 15250068460
微 信: 15250068460
地 址: 江蘇蘇州姑蘇區(qū)興浦路333號(hào)現(xiàn)代工業(yè)坊
郵 編:
網(wǎng) 址: helen123123.b2b168.com
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