平板狀氧化鋁研磨微粉

時間：2020-11-06作者：淄博市淄川大眾磨料廠瀏覽：328

淄博市淄川大眾磨料廠專注于平板狀氧化鋁研磨微粉等

• 詞條

  詞條說明

• 半導(dǎo)體材料的研磨拋光

  ? ? ?磨削和研磨等磨料處理是生產(chǎn)半導(dǎo)體晶片必要方式，然而磨削和研磨會導(dǎo)致單晶硅晶片的表面完整性變差。因此拋光和平面化對生產(chǎn)微電子原件來說是十分重要的。1簡介半導(dǎo)體基片的結(jié)構(gòu)厚度已經(jīng)被降低到0.35微米，但拋光和平展化任然是制備微電子原件的必要準(zhǔn)備。因此，拋光半導(dǎo)體基底材料的任務(wù)將在集成電路的制造過程中的角度來限定。本次講座的主要重點(diǎn)放在工藝技術(shù)，原材料和結(jié)構(gòu)性晶圓

• 陶瓷系列氧化鋁

  陶瓷TC系列a-AL2O3系列產(chǎn)品特性：是高溫氧化鋁微粉，粒度均勻，易分散。其化學(xué)純度以及a-AL2O3?均高，收縮性小而且穩(wěn)定，有良好的燒結(jié)性能。?產(chǎn)品用途：是生產(chǎn)高級陶瓷，高級耐火制品的基本原料。?產(chǎn)品化學(xué)成分%：型號AL2O3SiO2Fe2O3Na2OTC-01≤99.70.050.040.20TC-02≤99.60.050.040.25TC-03≤99.50.

• 半導(dǎo)體晶片的研磨

  ? ? ? ? 半導(dǎo)體晶片研磨??磨削和研磨等磨料處理，對晶體的切片表面和厚度進(jìn)行精細(xì)加工是半導(dǎo)體晶片加工的重要工序。然而研磨會導(dǎo)致芯片表面的完整性變差。因此，拋光的一致性、均勻性和表面粗糙度對生產(chǎn)芯片來說是十分重要的。其目的是保證晶片達(dá)到一定的厚度要求，去除晶片切割中產(chǎn)生的刀痕，并控制表面損傷層的厚度及其一致性。晶片研磨的基本技術(shù)是磨削

• 平板狀氧化鋁研磨微粉的制備工藝

  ? ? ? 平板狀氧化鋁的制備可以通過很多方法，主要有熔鹽法、水熱(醇熱)法、涂膜法、機(jī)械法以及液相間接制備法等。 ?1、熔鹽法?將所需組分的反應(yīng)物與2種鹽按照一定比例混合，然后在高于鹽的熔點(diǎn)的溫度下進(jìn)行煅燒，由于氧化物重新排布并迅速擴(kuò)散到液態(tài)鹽中進(jìn)行反應(yīng)而生成產(chǎn)物，冷卻后經(jīng)去離子水清洗除去其中的鹽分得到純凈產(chǎn)物的一種粉體合成方法。 ?