?plasma等離子體能量密度對H2氣氛下C2H6脫氫反應的影響

時間：2023-03-14

作者：深圳子柒科技有限公司

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電漿清洗機氫去除SiC表面污染物C和O
SiC該材料是三代半導體材質，具有高臨界擊穿電場、高導熱性、高載流子飽和漂移速度等特點。它是**半導體功率器件的*方向，在高壓、高溫、高頻、抗輻射半導體器件低損耗的優(yōu)良性能，是**半導體功率器件的*。? ? ? ??但經(jīng)傳統(tǒng)濕法處理后的SiC表面存在著殘留有C雜質和表面容易被氧化等缺點，使得在SiC上不容易形成優(yōu)良的歐姆接觸和低界面態(tài)的MOS結
在紡織和涂層領域_等離子表面活化機的使用情況有哪些呢？
等離子表面活化機廣泛應用于紡織品后整理。按照整理的目的和要求，可以實現(xiàn)紡織品的多功能加工，大大提高產品的附加值。目前，它在紡織品中的應用主要包括以下幾類。1)等離子表面活化機三防整理傳統(tǒng)式的紡織品三防整理，往往需要經(jīng)過軋制、烘焙、烘焙等工序，工藝流程長，需要耗費大量能量；而且需要昂貴的整理劑等添加劑。因此，其加工成本高，整理后往往會影響或犧牲纖維或織物本身的特性和性能。較重要的是，這些整理劑或交聯(lián)
plasma設備表面聚合同樣是非常普遍的反應其一
沉積層的存在有利于提高材料表面的黏結能力。在plasma設備對難粘塑料進行處理時，往往伴隨聚合、蝕刻、活化等形式會同時出現(xiàn)。? ? ? ?當材料表面有很高的光潔度要求時，要通過表面活化進行鍍膜，沉積，粘接等不至于破壞材料表面光潔度時，采用plasma設備進行活化。經(jīng)等離子活化后的材料表面水滴浸潤效果顯著強于其它解決的方法。我們用plasma設備來做手機屏的清
等離子體刻蝕機清洗技術在塑料及橡膠行業(yè)中的應用
等離子體刻蝕機是利用高頻輝光放電反應，將反應氣體為原子或游離基等具有活性的粒子，這些活性粒子擴散到需要腐蝕的位置，然后與被刻蝕的物質發(fā)生反應，形成揮發(fā)性反應物，這種腐蝕方法也稱為干腐蝕。等離子化洗蝕刻技術是電漿特殊特性的應用。等離子體清洗蝕刻技術的形成設備，是在密閉器皿內用進口真空泵達到相應的真空度，隨著氣體的稀薄，分子間隔及分子與離子之間的自由運動距離變長，在電場的作用下碰撞形成等離子體，這些離